半導體濕法腐蝕清洗設(shè)備,wet bench,晶圓清洗機,RCA清洗機,重腐蝕機,刻蝕機,wet ETCHing,供液裝置,桶清洗設(shè)備,灌裝,鈮酸鋰/鉭酸鋰清洗機,氧化鉀清洗機,lift-off,去膠,去蠟,刷洗機,基板清洗機,掩膜版清洗機,mask
2 設(shè)備名稱:晶片腐蝕機
2 設(shè)備型號:RHXX-待定
2 制作材質(zhì):PP
2 處理能力:每槽2籃6寸或1籃8寸
2 整機尺寸:約2000mm(L) ×1300mm(W) ×2400mm(H)
晶片腐蝕機主體構(gòu)造特點
由于是一個酸性的環(huán)境,我們設(shè)備的排風方式,臺面下抽風為主,背部、頂部排風的綜合排廢氣系統(tǒng),槽下有單獨的抽風裝置,同時工藝槽采用自動供液裝置。
設(shè)備結(jié)構(gòu)外型,整機主要由機架、工藝槽體、機械手系統(tǒng)、排風系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、水路系統(tǒng)及氣路系統(tǒng)等組成。
由于工藝槽內(nèi)藥液腐蝕性強,設(shè)備需要做防腐處理:(1)設(shè)備機架采用鋼結(jié)構(gòu)骨架包塑;(2)殼體采用瓷白色PP板材焊接成型,制程區(qū)由耐酸堿PP板材組合焊接而成:(3)電氣區(qū)設(shè)置在設(shè)備后上部,與濕區(qū)和管路區(qū)隔離;(4)槽體材料選用耐相應溶液腐蝕的材料;(5)機械手探人濕區(qū)部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理或為鐵氟龍加工件。
設(shè)備的排風系統(tǒng)由引風窗和排風口組成,排風口位于設(shè)備后頂都。排風板為可拆卸可調(diào)結(jié)構(gòu),以便清除可能產(chǎn)生的結(jié)晶。排風口處設(shè)有自動調(diào)節(jié)風門,即上電打開風門,斷電關(guān)閉風門。具有風壓檢測功能,以及氮氣、壓縮空氣壓力報警功能。設(shè)備前、后下方均設(shè)有維護門。臺面為多孔結(jié)構(gòu),便于臺面上沖洗水、液的排出。機械手抓取部位位于液面以上,以防止傳遞過程中的交叉污染。所有和晶片直接接觸的化學介質(zhì)中不允許有金屬出現(xiàn)。
設(shè)備臺面排列布置如(臺面布置圖)所示,共3個腐蝕工作位,3個水洗工位;所有槽工作在潔凈、全封閉的結(jié)構(gòu)中,工作參數(shù)通過觸摸屏設(shè)置。每個工位均設(shè)置單獨控制按鈕(開始,停止,急停),可分別控制4個工藝位;將來清洗片盒手工放在機械手上,操作人員按“開始/start按鈕”后,進行工藝動作;清洗完成后系統(tǒng)發(fā)出報警提出信號,待人工手動取出。設(shè)備臺面的左、右前方分別配置PP材料的水(2把,2把水槍),便于工件及設(shè)備的清理;設(shè)備整機放置于一個PP承露盤中,防止藥液漏液至高架地板,承露盤中設(shè)置漏液傳感器,漏液報警。