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KS-CF300/200-8SR 全自動SCRUBBER清洗機(jī)

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晶圓清洗

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述

該清洗機(jī)設(shè)計(jì)得精密而高效,能夠全面滿足對晶圓表面、背面及邊緣的清洗需求。借助于創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術(shù),該設(shè)備能效率去除附著在晶圓表面的微小顆粒污染物。這一技術(shù)的突破使得清洗過程不僅迅速,確保晶圓在進(jìn)入下一工序之前達(dá)到預(yù)期的潔凈度。

為了實(shí)現(xiàn)*清洗效果,工程師們通過大量仿真試驗(yàn)與實(shí)際工藝實(shí)驗(yàn)相結(jié)合,優(yōu)化了清洗工藝的各項(xiàng)參數(shù)。這種科學(xué)的調(diào)試過程能夠精確控制清洗強(qiáng)度和時(shí)間,有效避免對晶圓表面圖形造成潛在損傷,確保精密制造的需求得以滿足。

針對微米級別的大顆粒污染物,清洗機(jī)配置了采用特殊材料制成的毛刷和高壓噴淋裝置,通過物理刷洗與高壓水流相結(jié)合的方式,有效去除附著在晶圓表面的頑固污垢。這種多方位的清洗手段,使得清洗過程變得更為高效和全面。

2. 產(chǎn)品優(yōu)勢:

機(jī)臺可采用防靜電管路,防止水中靜電荷到達(dá)晶圓表面,對圖形造成破壞
翻轉(zhuǎn)單元接觸點(diǎn)少,減小了與晶圓的接觸面積
所有表都為數(shù)字顯示,數(shù)據(jù)上傳工控機(jī)方便追溯
機(jī)臺優(yōu)化傳輸路徑,產(chǎn)能大幅提升
軟件客制化,界面友好,可按照客戶要求更改
更高效的FFU
售后服務(wù):響應(yīng)快,當(dāng)?shù)伛v廠服務(wù)(7X24小時(shí))
支持工廠自動化

3. 應(yīng)用域:

晶片爐管后清洗
化學(xué)氣相沉積(CVD)后的清洗
物理氣相沉積(PVD)后的清洗
化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)后的清洗,后段干法刻蝕后的清洗

特殊工藝要求晶圓背部及晶圓邊緣的清洗




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