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PLD-T VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

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皕赫科學儀器(上海)有限公司代理眾多歐美*儀器儀表設備,為了更好地服務客戶和開拓市場,現(xiàn)誠招省級代理。

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?在國內我們與多家設計院、科研院所及集成商建立了良好的項目合作關系,產(chǎn)品廣泛應用于冶金、汽車制造、煙草制造、液壓、制藥、食品飲料、電力、船舶制造、印刷包裝、石油化工、機床、環(huán)保監(jiān)測、鐵路機車、機械制造、紡織等行業(yè)。


儀器儀表,電子設備,機械設備,工業(yè)自動化設備,五金產(chǎn)品,電線電纜,金屬材料,電子

產(chǎn)地類別 進口 價格區(qū)間 面議
應用領域 綜合

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

英國VacTechniche,真空鍍膜系統(tǒng),濺射鍍膜機,PLD-T 脈沖激光器,沉積和熱蒸發(fā)器

PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發(fā)器

SEM/TEM 樣品制備 Vac Techniche

多功能脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)器系統(tǒng) – PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統(tǒng),可通過脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)技術沉積不同的材料。它可以將復雜材料和晶體結構沉積到基板上,只需很少的設置。
脈沖激光沉積技術可實現(xiàn)高效的非熱燒蝕,并保持靶材的化學計量。通過應用這種方法,它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復合材料等材料。

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

PLD-T
熱蒸發(fā)源

(舟/籃/盤管)

脈沖激光沉積系統(tǒng)可配備三個獨立的熱阻熱蒸發(fā)源。蒸發(fā)源支架的良好設計不會使污染物從源材料轉移到其他材料。源架的長度可在 5~10 cm 范圍內調節(jié),滿足客戶要求。

DCT-Desktop 碳素涂布機

  • 轉速可調的目標機械手
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  • 500 °C 基板加熱器
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VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器



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