脈沖激光沉積鍍膜機PLD
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 研啟科學儀器(東莞)有限公司
- 品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質 代理商
- 更新時間 2024/10/22 16:48:52
- 訪問次數(shù) 44
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v 產(chǎn)品概述:系統(tǒng)主要由真空室、旋轉靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成
v 設備用途:是一種利用激光高能量脈沖輻射沖擊固體靶時,激光與物質之間的所有物理相互作用,亦包括等離子羽狀物的形成,其后已熔化的物質通過等離子羽狀物到達已加熱的基片表面的轉移,及最后物質沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段。PLD非常適合生長多元氧化物的多層膜和異質膜,輕松實現(xiàn)對化學成分較復雜的復合物材料進行材料生長。在生長過程中還可以實現(xiàn)引入活性或惰性及混合氣等工藝氣體,以提高薄膜生長品質
v 基片尺寸:8inch(可向下兼容)
v 加熱溫度:1000℃ 加熱方式:輻射加熱
v 靶材:3*4”
v 真空度:5*10-7Pa
v 氣路系統(tǒng):氧氣、氮氣、氬氣
v 模塊:PLD+進樣室
v 激光窗口:配有閘板閥
v 光路系統(tǒng):激光掃描功能