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脈沖激光沉積鍍膜機PLD

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公司主要銷售實驗室儀器儀表、實驗室儀器設備、散熱材料、增材制造設備、電氣設備、電子產(chǎn)品、通訊器材、機械配件、通訊器材、電腦軟硬件、機械配件、非標自動化設備、五金工具、實驗耗材和試劑(不含危險化學品)、激光儀器及輔助設備;

電氣設備、信息系統(tǒng)設計、集成;工程管理服務;單晶硅、碳化硅、立方氮化硼、石墨烯、石墨炔、碳納米管技術開發(fā)、技術轉讓和檢驗檢測服務;

計算機軟硬件及輔助設備、信息系統(tǒng)軟件、非標自動化設備的租賃和維修;

銷售醫(yī)療器械、文化辦公用品、五金交電、機械設備、監(jiān)控設備、建筑材料、裝飾材料、辦公室用品;第二類醫(yī)療器械經(jīng)營、第三類醫(yī)療器械經(jīng)營;依托進口核心產(chǎn)品做研發(fā):

團隊是由深圳大學從事材料,光學,生物團隊組成,目前核心創(chuàng)始人3位,分別負責材料,生物和光電領域,分別提供相應配套設施以及技術解決方案等;業(yè)務目前主要覆蓋東莞,深圳,惠州,廣州等整個廣東地區(qū),可快速抵達廣東所在區(qū)域提供技術支持和服務。

目前典型服務客戶有:清華大學深圳國際研究生院,哈爾濱工業(yè)大學(深圳),南方科技大學,深圳大學,深圳技術大學,北京大學深圳研究生院,松山湖材料實驗室,大灣區(qū)大學(籌),東莞理工學院,中山大學,暨南大學,華南理工大學,廣東工業(yè)大學等

純水機,離心機,旋轉蒸發(fā)儀,光譜儀,質譜儀,頻譜儀,示波器,掃描電子顯微鏡,電化學工作站,,流式細胞儀,手套箱,磁控濺射

v 產(chǎn)品概述:系統(tǒng)主要由真空室、旋轉靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成

v 設備用途:是一種利用激光高能量脈沖輻射沖擊固體靶時,激光與物質之間的所有物理相互作用,亦包括等離子羽狀物的形成,其后已熔化的物質通過等離子羽狀物到達已加熱的基片表面的轉移,及最后物質沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段。PLD非常適合生長多元氧化物的多層膜和異質膜,輕松實現(xiàn)對化學成分較復雜的復合物材料進行材料生長。在生長過程中還可以實現(xiàn)引入活性或惰性及混合氣等工藝氣體,以提高薄膜生長品質

v 基片尺寸:8inch(可向下兼容)

v 加熱溫度:1000   加熱方式:輻射加熱

v 靶材:3*4

v 真空度:5*10-7Pa

v 氣路系統(tǒng):氧氣、氮氣、氬氣

v 模塊:PLD+進樣室

v 激光窗口:配有閘板閥

v 光路系統(tǒng):激光掃描功能




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