TTT-UV Litho-ACA 高靈活性 科研版無(wú)掩膜光刻機(jī)

光刻機(jī)，亦稱(chēng)為掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，是半導(dǎo)體芯片制造中的關(guān)鍵設(shè)備，主要負(fù)責(zé)將集成電路的設(shè)計(jì)圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅晶圓上，以生產(chǎn)出微小、精確、高效的集成電路。在光刻工藝中，光刻機(jī)的性能直接影響到最終產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。

光刻機(jī)的分類(lèi)主要基于其曝光方式，可分為接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī)和直寫(xiě)式光刻機(jī)。直寫(xiě)式光刻機(jī)根據(jù)是否使用掩膜版，又分為有掩膜和無(wú)掩膜兩種。無(wú)掩膜光刻機(jī)，作為一種創(chuàng)新的曝光技術(shù)，它不依賴于傳統(tǒng)的掩膜版，而是通過(guò)直接對(duì)晶圓進(jìn)行曝光來(lái)實(shí)現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移，這種技術(shù)不僅提高了生產(chǎn)速度，降低了成本，而且還增加了光刻工藝的靈活性。

高靈活性 科研版無(wú)掩膜光刻機(jī)——ACA系列

ACA系列無(wú)掩膜光刻機(jī)是專(zhuān)為科學(xué)研究而設(shè)計(jì)的，它具有以下優(yōu)勢(shì)：

高靈活性：基于空間光調(diào)制技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻，能夠快速適應(yīng)不同的實(shí)驗(yàn)需求和設(shè)計(jì)變更。

高精度：提供精確的光刻效果，滿足科研中對(duì)細(xì)節(jié)和精度的嚴(yán)格要求。

無(wú)掩膜：省去了掩膜版的制作和更換，大大縮短了實(shí)驗(yàn)周期，降低了成本。

ACA系列無(wú)掩膜光刻機(jī)的亮點(diǎn)包括：

特征尺寸0.8μm，適用于精細(xì)圖案的制造。

6英寸光刻面積，滿足大多數(shù)科研實(shí)驗(yàn)的需求。

高精度步進(jìn)光刻，確保了圖案轉(zhuǎn)移的準(zhǔn)確性。

ACA Pro無(wú)掩膜光刻機(jī)的亮點(diǎn)：

特征尺寸0.4μm，提供了更高的光刻精度。

6英寸光刻面積，適應(yīng)多種尺寸的晶圓。

高精度步進(jìn)光刻，適合復(fù)雜的圖案制造。

ACA Master無(wú)掩膜光刻機(jī)的亮點(diǎn)：

特征尺寸0.4μm，保持了光刻精度。

6英寸光刻面積，兼容多種標(biāo)準(zhǔn)尺寸的晶圓。

掃描光刻/步進(jìn)光刻可切換，提供了更多的光刻方式選擇，增強(qiáng)了設(shè)備的適用性。

ACA系列高靈活性 科研版無(wú)掩膜光刻機(jī)為科研工作提供了強(qiáng)大的支持，其長(zhǎng)壽命、高功率的紫外光源保證了設(shè)備的穩(wěn)定性和可靠性，而原位光繪和交互式套刻指引功能使得光刻和套刻過(guò)程更加容易和精準(zhǔn)。這些特點(diǎn)使得ACA系列成為科學(xué)研究領(lǐng)域的理想選擇，助力科研人員在進(jìn)行光刻相關(guān)實(shí)驗(yàn)時(shí)取得更加精確和可靠的結(jié)果。