納米壓印設(shè)備

納米壓印設(shè)備對應的應用：1.AR/VR/MR；2.3D Sensor；3.WGP(無機偏光板)；4.DNA Sequenser。

納米壓印設(shè)備對應的應用圖形：1.DOE圖形；2.Lens Array；3.斜面圖形；4.L&S圖形；5.蛾眼結(jié)構(gòu)圖形；6.Retroreflrctor圖形。

流程：1.子模的生產(chǎn)（母?！幽＃?.產(chǎn)品的制造（子?！a(chǎn)品）。

搬送Robot ：Coater與 Imprint 2 peases

塗布材料：Primer?產(chǎn)品材料?Replica材料

清洗功能：Cup清洗?Edge清洗?背面清洗(PGMEA)

轉(zhuǎn)速：MAX 3000rpm±2rpm

加速度：MAX 10,000rpm/sec±5%

Option：2 工作單元（溶劑不可兼容時可追加一個工作單元）

Bake溫度:Max 250℃≦±５.0℃ 

Cool溫度:20～27℃(Chiller)

Option：2段（Tact對應）

UV light source：UV-LED 365nm（standard）

真空：50～100Pa、加壓0.1～0.9MPa

1972年 公司建立以來半導體制造設(shè)備 銷售業(yè)績1300臺以上FPD制造設(shè)備 銷售業(yè)績 800臺以上合計2,100臺以上的銷售業(yè)績并且在現(xiàn)地有成熟的售后服務(wù)體系