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OLED有機(jī)無(wú)機(jī)蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配手套箱
參考價(jià) | ¥ 90000 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/12/21 10:13:51
- 訪問(wèn)次數(shù) 23
OLED有機(jī)無(wú)機(jī)蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配手套箱有機(jī)無(wú)機(jī)蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配手套箱OLED蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配手套箱蒸發(fā)鍍膜機(jī)配手套箱OLED有機(jī)無(wú)機(jī)蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
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產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 1-5萬(wàn) |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 文體,地礦,能源,建材,冶金 |
簡(jiǎn)單介紹:
OLED有機(jī)無(wú)機(jī)蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配手套箱以金屬/有機(jī)源蒸發(fā)為主體,適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)、氧化物、介電質(zhì)、半導(dǎo)體膜等詳情介紹:
一、設(shè)備性能:
OLED有機(jī)無(wú)機(jī)蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配手套箱以金屬/有機(jī)源蒸發(fā)為主體,適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)、氧化物、介電質(zhì)、半導(dǎo)體膜等,也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等,整套設(shè)備操作簡(jiǎn)便,綜合功能多,擴(kuò)展空間大,適合及滿足大專院校的教學(xué)與科研工作。
二、設(shè)備基本結(jié)構(gòu):
鍍膜設(shè)備由真空室腔體,金屬/有機(jī)源系統(tǒng),樣品臺(tái)系統(tǒng),真空泵機(jī)組,膜厚檢測(cè)系統(tǒng),設(shè)備機(jī)架,電控系統(tǒng)組成,真空室前門可與手套箱對(duì)接,采用一體化的設(shè)計(jì)方案,整套設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊、布局簡(jiǎn)潔,避免實(shí)驗(yàn)設(shè)備外觀凌亂的現(xiàn)象。
適應(yīng)領(lǐng)域:
適用于制備金屬電極、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池、OLED、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等,可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于于小批量及中試生產(chǎn)或大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作。
產(chǎn)品特點(diǎn):
設(shè)備兼容有機(jī)/無(wú)機(jī)蒸發(fā),可實(shí)現(xiàn)多元分蒸或共蒸獲得多層膜、復(fù)合膜,性能穩(wěn)定,尤其溫控有機(jī)蒸發(fā)源不僅角度可調(diào),均勻性好,同時(shí)可通過(guò)進(jìn)口膜厚儀聯(lián)動(dòng)控制實(shí)現(xiàn)速率**控制、摻雜;樣品臺(tái)可升降調(diào)整源-基片距離,有效節(jié)約貴重材料,降低實(shí)驗(yàn)成本;
ATTO10全自動(dòng)高真空電阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)采用windows操作平臺(tái)和cotrl2000控制系統(tǒng),采用IPC+network技術(shù),實(shí)現(xiàn)整機(jī)主要部件的參數(shù)化設(shè)置、實(shí)施實(shí)時(shí)監(jiān)控及故障智能診斷以及膜厚全自動(dòng)監(jiān)控,有自動(dòng)和手動(dòng)控制兩種模式。除取放樣品外,其它操作過(guò)程全部在PC上使用軟件控制;提供真空系統(tǒng)、工藝設(shè)置、充放氣系統(tǒng)等友好人機(jī)操作界面;在工控機(jī)上可通過(guò)配方設(shè)置參數(shù),實(shí)現(xiàn)對(duì)程序工藝過(guò)程和設(shè)備參數(shù)的設(shè)置、儲(chǔ)存和打印。
膜厚全自動(dòng)監(jiān)控系統(tǒng),自動(dòng)設(shè)計(jì)、工藝讀入、參數(shù)設(shè)置、實(shí)時(shí)監(jiān)控等功能,實(shí)現(xiàn)整個(gè)鍍膜過(guò)程的全自動(dòng)控制。可以設(shè)置數(shù)十層甚至上百層的膜層控制,簡(jiǎn)單實(shí)現(xiàn)單層或多層共蒸。
三、設(shè)備技術(shù)指標(biāo):
產(chǎn)品名稱 | 帶手套箱六源蒸發(fā)鍍膜儀 | |
產(chǎn)品型號(hào) | CY-EVH400-Ⅵ-HHHOOOO-SS-STX | |
真空室腔體 | 外形 | 上等 304 不銹鋼 D 形真空室腔體 1 套,真空室內(nèi)部尺寸 D400*480mm,前后開(kāi)門,后門采用鉸鏈?zhǔn)椒介T,方便清洗真空腔體,真空室內(nèi)部調(diào)試,維修以及取放物品,前門采用橫拉方門,前后門各配 DN100 視窗 1 套; |
底部 | 金屬源接口 2 套,有機(jī)源接口 4 套, 復(fù)合分子泵接口 1 套,CF25照明接口 2 套以及膜厚探頭接口 3 套; | |
頂部 | 樣品臺(tái)接口 1 套,電動(dòng)擋板接口 1 套,高真空氣動(dòng)擋板閥接口 1 套 | |
左側(cè) | 超高真空氣動(dòng)擋板閥接口 1 套 | |
金屬/有機(jī)源系統(tǒng) | 金屬蒸發(fā)源 | 金屬蒸發(fā)源 2 套:水冷銅電極 2 組,兼容蒸發(fā)舟(鎢、鉬和鉭舟)和螺旋絲,配氣動(dòng)擋板,1KW 直流恒流電源 1 臺(tái)(數(shù)字顯示),電流調(diào)整精度 1A(微調(diào)),功率滿足常見(jiàn)的金屬以及金屬氧化物的蒸鍍; |
有機(jī)蒸發(fā)源 4 套 | 有機(jī)蒸發(fā)源 4 套:4CC(4ml) 石英舟,溫控電源 2 臺(tái)(溫控表顯示精度 0.1℃),溫度區(qū)間:室溫-500℃(控溫精度±1℃),配氣動(dòng)擋板; | |
隔板 | 蒸發(fā)源相互獨(dú)立,隔板分隔,避免交叉污 | |
樣品臺(tái)系統(tǒng) | 基片旋轉(zhuǎn) | 轉(zhuǎn)速 0~30 轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào) |
基片升降 | 電動(dòng)升降,襯底與蒸發(fā)源間距 200-300mm 通過(guò)觸摸屏連續(xù)可調(diào); | |
樣品臺(tái) | 圓形托盤 1 套,一次可放置8片20×20mm 基片 | |
基片擋板 | 電動(dòng)擋板 | |
真空泵機(jī)組 | 1) 600L/s分子泵 1 臺(tái); 2) 8L/s雙級(jí)泵 1 臺(tái) 3) CF150 氣動(dòng)超高真空插板閥 1 臺(tái); 4) CF40 超高真空氣動(dòng)擋板閥 1 臺(tái); 5) KF16 高真空氣動(dòng)擋板閥 1 臺(tái); 6) KF40 高真空氣動(dòng)擋板閥 1 臺(tái); 7) KF40 真空電磁充氣閥 1 臺(tái); 8) KF40 泵閥連接軟管 2 套,KF40 三通 1 套; | |
膜厚檢測(cè)系統(tǒng) | 膜厚儀 | 三通道石英晶振膜厚監(jiān)測(cè)儀 1 套; |
膜厚探頭 | CF35 水冷膜厚探頭 3 套 | |
設(shè)備機(jī)架 | 1) 40 碳鋼方管焊接機(jī)架 1 套,表面噴塑; 2) 萬(wàn)向輪 4 件,移動(dòng)調(diào)整; 3) M16 地腳 4 件,鎖緊定位 | |
電控系統(tǒng) | 金屬源蒸發(fā)源氣動(dòng)擋板 | 2套 |
金屬蒸發(fā)源電源1kw | 1套 | |
有機(jī)源蒸發(fā)源氣動(dòng)擋板 | 4套 | |
有機(jī)蒸發(fā)源電源 | 2套(1帶2) | |
烘烤照明電源 | 1 臺(tái) | |
樣品臺(tái)電動(dòng)擋板 | 1套 | |
總控制電源 | 1套 | |
PLC 控制 | 配觸摸屏 | |
手套箱 | 腔體尺寸 | L1200* W750* H900mm |
手套 | 3只 | |
大過(guò)渡艙 | 內(nèi)徑360mm, 長(zhǎng) 600mm | |
小過(guò)渡艙 | 內(nèi)徑150mm, 長(zhǎng)300mm | |
其他技術(shù)參數(shù) | 1) 缺相保護(hù)、誤操作保護(hù),聯(lián)動(dòng)互鎖以及一鍵真空啟停等功能; 2) 供電:~220V 兩相供電系統(tǒng)(峰值 3KW); 3) 供水:小型冷水機(jī),冷卻水溫度 5℃~35℃,工作環(huán)境溫度:10℃~40℃; 4) 供氣:小型無(wú)油氣泵,提供 0.2-0.3MPa 氣壓,驅(qū)動(dòng)氣動(dòng)閥門; 5) 極限真空:優(yōu)于 6×10-5Pa,大氣至 6×10-4Pa 時(shí)間小于 35 分鐘(充干燥氮?dú)猓?,關(guān)機(jī) 12 小時(shí)真空度≤10Pa。 |