化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>物理特性分析儀器>試驗(yàn)機(jī)>其它試驗(yàn)機(jī)>Jetetch II Nisene自動(dòng)塑封開(kāi)封機(jī)-Jetetch II
Jetetch II Nisene自動(dòng)塑封開(kāi)封機(jī)-Jetetch II
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 上海浦時(shí)電子科技有限公司
- 品牌
- 型號(hào) Jetetch II
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2018/5/26 6:22:26
- 訪問(wèn)次數(shù) 970
產(chǎn)品標(biāo)簽
開(kāi)封機(jī)開(kāi)蓋機(jī)自動(dòng)塑封開(kāi)封機(jī)自動(dòng)塑封開(kāi)蓋機(jī)化學(xué)開(kāi)封機(jī)
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Jetetch II自動(dòng)塑封開(kāi)封機(jī)
Nisene公司為*的客戶在半導(dǎo)體器件失效分析領(lǐng)域提供幾種解決方案. 1980年, *臺(tái)自動(dòng)塑封開(kāi)封機(jī)的問(wèn)世以來(lái), Nisene不斷改進(jìn)他們的自動(dòng)塑封開(kāi)封機(jī), 型號(hào)也從250, 350, D-cap,發(fā)展到現(xiàn)在，的型號(hào)為Jetetch II.
Jetetch II自從1999年在新加坡Semicon§展會(huì)上*展出以來(lái)，得到了廣泛的歡迎。其顯著的特點(diǎn)為：
用戶可以自己設(shè)定硝酸和硫酸混合比,比例設(shè)定范圍很寬,多達(dá)13種§
溫度可以設(shè)定，范圍為20-250§度
兩種刻蝕模式: 脈沖式和往復(fù)式
*的往復(fù)式刻蝕模式可以做到用更少的酸,以更快的速度來(lái)開(kāi)封
刻蝕劑流量調(diào)節(jié)：可連續(xù)調(diào)節(jié)從1.0 到6.0 毫升每分鐘
可以存貯100組刻蝕程序，隨意調(diào)取
刻蝕時(shí)間：10秒到1800秒，以1秒增加
刻蝕頭終身保用
刻蝕頭可以設(shè)計(jì)成分體的,可以根據(jù)不同樣品進(jìn)行更換刻蝕頭（選件）
泵的設(shè)計(jì)可以實(shí)現(xiàn)抽吸雙向的功能
可以對(duì)廢酸進(jìn)行分流處理避免潛在的危險(xiǎn)
安全的設(shè)計(jì), 使得酸瓶更加容易更換
CE認(rèn)證和SEMI S-2認(rèn)證
OmniEtch芯片逐層去除系統(tǒng)
Nisene公司很高興宣告的,的利用濕法刻蝕來(lái)達(dá)到芯片逐層去除的新產(chǎn)品---- OmniEtch§芯片逐層去除系統(tǒng). 其特點(diǎn):
用戶可以自行選定刻蝕用化學(xué)品, 刻蝕時(shí)間, 刻蝕溫度.
刻蝕速度可以設(shè)定
具有樣品觀察窗
刻蝕劑用量少
樣品放置簡(jiǎn)單
控制鋁, 銅, 氧化物, 和其他金屬的刻蝕
兼容大多數(shù)酸性和基本的化學(xué)品
可以逐層去除芯片
的刻蝕介質(zhì)
不會(huì)對(duì)樣品造成熱和機(jī)械的損傷
CE and SEMI S-2 認(rèn)證
上海浦時(shí)電子科技有限公司
：李
（歡迎您）
：celery_wang@foxmail.com
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