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所 在 地上海市
更新時(shí)間:2024-09-04 15:37:25瀏覽次數(shù):1048次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 化工儀器網(wǎng)Strain Viewer 內(nèi)應(yīng)力檢測(cè)儀
優(yōu)勢(shì)
√ 基于雙折射應(yīng)力測(cè)量模型實(shí)現(xiàn)應(yīng)力瞬時(shí)測(cè)量,顯示應(yīng)力二維分布偽彩圖
√ 采用雙遠(yuǎn)心檢測(cè)光路,相位延遲測(cè)量精度高
√ 根據(jù)不同測(cè)量視場(chǎng)要求,多種鏡頭可選
√ 訂制化樣品托盤,適應(yīng)不同規(guī)格晶圓批量測(cè)試
適用于三代化合物晶圓片、玻璃晶圓片、精密光學(xué)元件(平晶,棱鏡,波片,透鏡等)的內(nèi)應(yīng)力檢測(cè)
面向化合物晶圓生產(chǎn)、光學(xué)精密加工等行業(yè)
√ 基于偏振光應(yīng)力雙折射效應(yīng)檢測(cè)晶圓材料內(nèi)部應(yīng)力分布。當(dāng)晶體材料由于內(nèi)部缺陷存在應(yīng)力集中時(shí)會(huì)導(dǎo)致應(yīng)力雙折射效應(yīng),偏振光透過它時(shí)會(huì)發(fā)生偏振態(tài)調(diào)制,通過測(cè)量透射光的斯托克斯矢量可以推算??材料的應(yīng)力延遲量,從而得到材料內(nèi)應(yīng)力分布;
√ 可同步集成晶圓表面缺陷暗場(chǎng)檢測(cè)和尺寸量測(cè)。
實(shí)測(cè)案例
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