火焰輔助噴霧熱分解涂覆設(shè)備--MSK-TH-04FA 參考價(jià)：面議
MSK-TH-04FA has been developed for research in surface quality improvement of me...
超聲霧化熱解涂覆薄膜設(shè)備-- MSK-SP-04-LD 參考價(jià)：面議
噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基底上，然后在基底上得到想得到的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當(dāng)長(zhǎng)的...
超聲波霧化模塊（含130W的電源控制器和噴頭）--MSK-SP-01A 參考價(jià)：面議
超聲波霧化是利用超聲波能量將液體或是膠狀法分散成微米級(jí)的顆粒，其特點(diǎn)為霧粒噴出的初速度較小，且分散的霧粒尺寸較均勻。MSK-SP-01A就是一超聲霧化模塊，含有...
2英寸高真空磁控濺射頭--HVMSS-SPC-2-LD 參考價(jià)：面議
HVMSS-SPC-2是一款可安裝直徑為2英寸靶材的磁控濺射頭，可適用的靶材種類(lèi)較廣，如金屬/絕緣靶材或磁性/非磁性靶材。環(huán)形NdFeB永磁體安裝在濺射頭上，以...
500W直流濺射電源--DC-500-LD 參考價(jià)：面議
500W直流濺射電源--DC-500-LD
1英寸高真空磁控濺射頭--HVMSS-SPC-1-LD 參考價(jià)：面議
HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭，可安裝直徑為1英寸的靶材?？膳c直流、脈沖直流和射頻電源相匹配，以至于可以濺射各種靶材（如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶...
高真空腔體--HVC-SS 參考價(jià)：面議
本公司提供高真空腔體，客戶(hù)可自行為一些實(shí)驗(yàn)搭建真空系統(tǒng)，如等離子濺射，CVD或ALD等實(shí)驗(yàn)，同時(shí)也可作為高真空儲(chǔ)存箱。
100W小型RF（射頻）電源（采用手動(dòng)匹配）--RF-100-LD 參考價(jià)：面議
RF-100-LD是一款小型手動(dòng)匹配100WRF（射頻）電源，頻率為13.56MHz.此設(shè)備設(shè)計(jì)專(zhuān)門(mén)與本公司的1英寸的磁控濺射頭配用，可搭建起一套比較廉價(jià)的濺射...
高溫提拉涂膜機(jī)--PTL-HT 參考價(jià)：面議
PTL-HT高溫提拉涂膜機(jī)能夠提供溫度高達(dá)1000℃的提拉涂膜環(huán)境，廣泛用于各種高溫提拉涂膜研究。例如，陶瓷類(lèi)薄膜、晶體類(lèi)薄膜、電池材料薄膜、特殊納米薄膜。本機(jī)...
全自動(dòng)5工位恒溫提拉涂膜機(jī)--PTL-OV5P 參考價(jià)：面議
PTL-OV5P全自動(dòng)5工位恒溫提拉涂膜機(jī)用于同一樣件在不同液相中的多層涂膜，Z多可達(dá)到5層。本機(jī)廣泛用于納米、化工、金屬等材料領(lǐng)域，更是廣大高等院校、研究院所...
恒溫提拉涂膜機(jī)--PTL-MMB01 參考價(jià)：面議
PTL-MMB01恒溫提拉涂膜機(jī)是專(zhuān)為研究液相外延薄膜而設(shè)計(jì)的，在恒溫環(huán)境中，通過(guò)垂直提拉在液相中的樣件而生長(zhǎng)薄膜。
旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)--VTC-50 參考價(jià)：面議
VTC-50旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)能夠瞬間提供可控高速旋轉(zhuǎn)速度，迅速將液體、膠狀體等材料在襯底上成膜。由于采用鑄鋁結(jié)構(gòu)，在高轉(zhuǎn)速下運(yùn)行平穩(wěn)。
防腐型旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)--VTC-200P 參考價(jià)：面議
VTC-200P是一款防腐型真空旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)，機(jī)體和真空旋轉(zhuǎn)盤(pán)都采用尼龍材料制作，所以?xún)x器具有非常強(qiáng)的抗酸抗堿性，儀器中包括4個(gè)真空吸盤(pán)，針對(duì)于直徑為10mm到6...
小型流延自動(dòng)涂膜烘干機(jī) 參考價(jià)：面議
MSK-AFA-III是一款帶有自動(dòng)烘干功能的小型涂覆機(jī)，通過(guò)勻速地推動(dòng)精密制膜器，已達(dá)到平滑和均勻的涂覆效果。儀器采用真空吸附來(lái)固定襯底，使得涂覆過(guò)程中襯底不...
3靶等離子濺射儀 參考價(jià)：面議
VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認(rèn)證的等離子薄膜濺射儀（直流普通型），基片Z大尺寸2英寸，加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式。它可以濺射三種類(lèi)型的靶材...
小型蒸鍍儀--GSL-1100X-SPC-15E-LD 參考價(jià)：面議
GSL-1100X-15E是一款小型真空鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些輕金屬，如 Al. Mg, 和Li等。同時(shí)也可對(duì)樣品進(jìn)行鍍碳處理，Z大可處理的樣品直徑為50mm...
高真空蒸發(fā)鍍膜儀--GSL-1800X-ZF4 參考價(jià)：面議
GSL-1800X-ZF4是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些對(duì)氧較敏感的金屬膜，如Ti, Al 和Au等，也可蒸鍍各種氧化物材料。此款蒸鍍儀安裝有4個(gè)蒸...
近距離蒸發(fā)鍍膜 （ CSS）爐 參考價(jià)：面議
OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸發(fā)管式爐，專(zhuān)門(mén)針對(duì)于用PVD或CSS法來(lái)制作薄膜。此款管式爐爐管直徑為11" OD，爐管內(nèi)載樣盤(pán)可放置3" 的圓形或...
膜厚監(jiān)測(cè)儀--EQ-TM106 參考價(jià)：面議
EQ-TM106膜厚監(jiān)測(cè)儀是采用石英晶體振蕩原理，結(jié)合先進(jìn)的頻率測(cè)量技術(shù)，進(jìn)行膜厚的在線(xiàn)監(jiān)測(cè)。主要應(yīng)用于MBE、OLED熱蒸發(fā)、磁控濺射等設(shè)備的薄膜制備過(guò)程中，...
500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2DC 參考價(jià)：面議
VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體...
300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2RF 參考價(jià)：面議
VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空...
1英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀--VTC-1RF 參考價(jià)：面議
VTC-1RF是一款小型臺(tái)式單靶等離子濺射儀（射頻磁控型），配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜，特別是一些氧化...
雙靶磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個(gè)靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個(gè)靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個(gè)采用射頻（RF）濺射，...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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