1650℃布里奇曼單晶生長爐 參考價：面議
SKJ-BG1650 1650℃布里奇曼單晶生長爐是一款高質量的布里奇曼單晶生長爐，最高溫度可達1650℃。此款設備可生長出各種金屬單晶，目前本公司用此款設備已...
1500℃氣氛保護淬火爐 參考價：面議
OTF-1500X-80-VTQ是一款開啟式立式淬火管式爐，其爐管直徑為Φ80mm的莫來石管，采用液體罐來密封。此設備設計是用于樣品高溫淬火。樣品高溫處...
加熱型紫外臭氧清洗機 參考價：面議
PCE-22是一款可加熱型的紫外臭氧清洗機，其加熱溫度可達150℃。此款設備可用于清洗各種基片，為制作高質量的薄膜打好基礎。特別適合移除光刻膠，改善表面潤濕性，...
真空快速熱壓爐（VRHP） 參考價：面議
OTF-1700X-RHP4是一款真空快速熱壓爐（VRHP），此款設備設計主要是為了在真空（或氣氛保護）和高壓的環(huán)境下制作致密的復合材料。此款設備主要由15KW...
全自動液體分裝儀（18個端口）（針對于電解液的研究） 參考價：面議
MSK-18PE是一款程序控制的電解液分裝儀，安裝有注射泵和18通道流動選擇閥。設備程序允許用戶根據(jù)不同添加劑組合（如EC,EMC,VC）配置一系列的有機電解液...
1100℃小型布里奇曼晶體生長爐 參考價：面議
PTL-HT-B是一款小型的1100℃布里奇曼單晶生長爐，配有2英寸的石英管，精密提拉機。用于在氣氛保護環(huán)境下或密封石英坩堝環(huán)境下生長小尺寸的晶體。
小型4通道管式爐（爐管直徑25mm,溫度1700℃） 參考價：面議
GSL-1700X-MGI-4是一款小型4通道管式爐，其爐管直徑為Φ25mm,針對于高通量熱處理實驗。特別是對于合金和陶瓷熱處理，其Z高溫度可以達到17...
壓力可控型電動紐扣電池封裝機--MSK-160E 參考價：面議
MSK-160E是一款封裝壓力可控制并且顯示的紐扣電池封裝機，可封裝CR20系列的紐扣電池（CR2016，2032和2025）。而且此款封裝機，采用電機驅動封裝...
2000℃溫度可控型30KW感應加熱爐--SP-85KTC 參考價：面議
SP-85KTC是一款較大型高溫感應加熱/熔煉爐系統(tǒng)，配用30KW感應加熱器，8.5英寸（216mm）石英管，鉸鏈式法蘭及閥門，石墨坩堝、石墨毯、氧化鋁保溫毯，...
5英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐（CSS）OTF-1200X-RTP-II-5 參考價：面議
OTF-1200X-RTP-II-5是一款快速熱處理爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門實際針對于熱蒸發(fā)或CSS（Close Spaced Su...
含滑軌法蘭的管式爐--OTF-1200X-SF 參考價：面議
OTF-1200X-4-SF是一款爐管尺寸為100mm，帶有滑軌法蘭的管式爐，Z高工作溫度為1200℃，此款管式爐專為客戶自己搭建CVD系統(tǒng)而設計。
七溫區(qū)1000℃網(wǎng)帶爐--KSL-1200X-BF6 參考價：面議
KSL-1200X-BF6一款小型網(wǎng)帶爐，其網(wǎng)帶寬度為6“（150mm）。所要熱處理的樣品放在網(wǎng)帶上，網(wǎng)帶傳送樣品連續(xù)通過7個加熱溫區(qū)。此款設備是一款中式生產(chǎn)設...
1000℃小型開啟式管式爐--OTF-1200X-M12 參考價：面議
OTF-1200X-L12是一款小型開啟式管式爐，其Z高工作溫度可達到1000℃，爐管可以選用直徑為100mm或130mm的石英管，并且可配一套不銹鋼密封法蘭（...
1700℃立式淬火爐--GSL-1700X-VTQ 參考價：面議
GSL-1700X-VTQ是一款通過UL認證的立式真空管式淬火爐，標配有直徑60mm的莫來石管和一個用于樣品淬火的液體密封容器。該設備實驗時可以使樣品從高溫環(huán)境...
超聲霧化及靜電沉降1800℃納米制備管式爐--GSL-1800X-PGEP 參考價：面議
GSL-1800X-PGEP是一款多功能的合成系統(tǒng)，針對于合成各種納米結構氧化物。此款儀器有三個主要模塊組成：超聲霧化裝置、1800℃管式爐和靜電沉降裝置組成。...
軋輥轉速可調(diào)電動輥壓機 參考價：面議
MSK-MR100DC 軋輥轉速可調(diào)電動輥壓機是一款可通過UL/CSA認證的電動輥壓機，此設備軋輥尺寸為：Φ100mm×100mm，采用的是可...
氫爆爐--OTF-1200X-V-H4 參考價：面議
OTF-1200X-V-H4是一款UL/TUV標準的氫氣管式爐，主要設計用于對磁性材料進行氫爆處理或對材料在氫氣環(huán)境下進行熱處理。此款管式爐有5個溫區(qū)（分別采用...
坩堝（樣品臺）可移動型1200℃管式爐--OTF-1200X-S-HPCVD 參考價：面議
OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內(nèi)移動（靠步進電機控制）的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設備Z高工作溫度為1200℃。設備特點：坩堝通...
雙刮刀微米級可調(diào)制膜器-寬度150mm--Se-KTQ-150D 參考價：面議
Se-KTQ-150D是一款雙刮刀的可調(diào)制膜器，由于有兩個刮刀所以涂覆效果會更加均勻。操作者可通過千分尺來調(diào)節(jié)刮刀與所涂覆平面之間的間隙，此工具特別適合實驗室制...
2單靶直流磁控濺射儀--VTC-16-SM 參考價：面議
VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個2英寸水冷靶頭和可旋轉樣品臺，外形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備，可選配各種金屬靶...
6工位小型連續(xù)離子層反應吸附（SILAR）吸附系統(tǒng)--PTL-SC-6-LD 參考價：面議
PTL-SC-6是一款自動連續(xù)離子層吸收反應（SIAR）制膜系統(tǒng)，與手動操作相比，避免了實驗中的人為誤差，因為SIAR制膜法需多次對樣品進行重復提拉，所以手動很...
真空立式淬火爐--OTF-1200X-4-VTQ 參考價：面議
OTF-1200X-4-VTQ是立式可開啟真空管式淬火爐，石英管直徑100mm，配有一個密封的液體容器用于樣品淬火，溫度從Z高1200度到冰水或油，可用于研究材...
1500℃真空熱壓爐--OTF-1500X-VHP4 參考價：面議
OTF-1500X-VHP4是一款真空熱壓機，可對材料在真空（或氣氛保護）及高溫的環(huán)境下進行加壓，如把粉末壓成塊狀，或將多層晶片壓合在一起（擴散實驗）。此款儀器...
小型磁力滑動管式爐--OTF-1200X-S-DVD 參考價：面議
OTF-1200X-S-DVD是一款靠磁鐵推動坩堝移動的管式爐。其爐管直徑為50mm,Z高工作溫度為1200℃。本公司設計此款管式爐主要是為了在各種氣氛環(huán)境下用...
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