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隨著半導(dǎo)體器件、量子器件和材料科學(xué)等域的蓬勃發(fā)展,器件的尺寸變得越來越小、結(jié)構(gòu)越來越復(fù)雜,與之相應(yīng)的微納尺度下的加工精度要求越來越高。聚焦離子束(FIB)系統(tǒng)已成為相關(guān)域的研究中*的關(guān)鍵設(shè)備。截止到目前,可商購(gòu)的FIB系統(tǒng)大都使用液態(tài)金屬或惰性氣體作為離子源,但是采用上述離子源的FIB系統(tǒng)在加工精度,加工速度,維護(hù)難度和使用費(fèi)用等方面很難達(dá)到令人滿意的平衡,因此兩者并非FIB系統(tǒng)的理想離子源選擇。
為了解決商用FIB系統(tǒng)中存在的上述問題,2020年,美國(guó)zeroK NanoTech公司運(yùn)用曾獲諾貝爾獎(jiǎng)的激光冷卻技術(shù),推出了新代高精度低溫銫離子源FIB系統(tǒng)——FIB: ZERO。該系統(tǒng)采用低溫銫離子源(Cs+ LoTIS),在很大程度上減少了離子的隨機(jī)運(yùn)動(dòng),使FIB:ZERO中的離子束斑與傳統(tǒng)離子源產(chǎn)生的束斑相比具有更高的亮度,更小的尺寸,和更低的能量散失。因此,可以獲得更清晰的成像、更高的加工精度和更少的樣品損傷。同時(shí),也顯著降低了維護(hù)難度和使用成本。近日,Quantum Design中國(guó)正式引進(jìn)新代高精度低溫銫離子源FIB系統(tǒng),希望能夠幫助我國(guó)科學(xué)家在半導(dǎo)體器件、量子器件和材料科學(xué)等域有更深入的研究。
新品亮點(diǎn)
1. 更清晰的成像效果,更大的成像景深
2. 更明顯的對(duì)比度
3. 更高的加工精度(相同時(shí)間)
4. 更好的加工均勻性(相同時(shí)間)
5. 對(duì)樣品小的損傷范圍
Stopping and Range of Ions in Matter(SRIM)模擬不同離子源產(chǎn)生的離子束在硅中的影響范圍
傳統(tǒng)氣體離子源 | 傳統(tǒng)液態(tài)金屬離子源 | 新代低溫銫離子源 |
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