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Moorfield Nanotechnology是英國材料科學(xué)域高性能儀器研發(fā)公司，成立二十多年來注于高質(zhì)量的薄膜生長與加工技術(shù)，擁有雄厚的技術(shù)實力，推出的多種高性能設(shè)備受到科研與工業(yè)域的廣泛好評。高精度薄膜制備與加工系統(tǒng) - MiniLab是英國Moorfield Nanotechnology公司經(jīng)過多年技術(shù)積累與改進(jìn)的旗艦型系列產(chǎn)品。MiniLab系列產(chǎn)品的定位是配置靈活、模塊化設(shè)計的PVD系統(tǒng)，可用于高質(zhì)量的科學(xué)研究和中試生產(chǎn)。
高精度薄膜制備與加工系統(tǒng) - MiniLab自推出以來銷售已突破200套。這些設(shè)備已經(jīng)進(jìn)入了歐洲各大學(xué)和科研單位實驗室，諸如曼徹斯大學(xué)、劍橋大學(xué)、帝國理工學(xué)院、諾森比亞大學(xué)、巴斯大學(xué)、?？巳髮W(xué)、倫敦瑪麗女·王大學(xué)、哈德斯菲爾德大學(xué)、萊頓大學(xué)、亞森工業(yè)大學(xué)、西班牙光子科學(xué)研究所、英國國家物理實驗室等著名單位都是Moorfield Nanotechnology的用戶和長期合作者。諸多的用戶與合作者讓產(chǎn)品的性能和設(shè)計理念得到了高速發(fā)展，并邁入全球化的進(jìn)程。
如今Quantum Design中國子公司與Moorfield Nanotechnology正式合作，作為中國的總代理和戰(zhàn)略合作伙伴，將為中國用戶提供高性能的設(shè)備與質(zhì)的服務(wù)。除了MiniLab系列之外我們還提供多種高性能的臺式設(shè)備和定制服務(wù)。
設(shè)備型號
MiniLab 026 MiniLab 026系統(tǒng)是小型落地式真空鍍膜設(shè)備，具有容易操作的“翻蓋"式真空腔。適用于金屬、電介質(zhì)和有機(jī)物的蒸發(fā)和濺射沉積鍍膜。 MiniLab 026采用體化設(shè)計方案，真空腔的部分向下插入支撐框架內(nèi)。腔室可以采用翻蓋式或鐘罩式。該系統(tǒng)可配備多種沉積技術(shù)，熱蒸發(fā)和低溫蒸發(fā)源(生長金屬和有機(jī)物)，磁控濺射源(金屬和無機(jī))。沉積源通常安裝在腔室底部，樣品他安裝在頂部，可容納直徑達(dá)6英寸的基片。可提供基片加熱、旋轉(zhuǎn)和Z-shift。MiniLab 026還與手套箱兼容，是MiniLab系列中唯·可以輕松與用戶現(xiàn)有手套箱集成的系統(tǒng)。 薄膜生長方式可選：熱蒸發(fā)（金屬）、低溫?zé)嵴舭l(fā)(有機(jī)物)、磁控濺射（金屬、氧化物、氮化物、緣體） |
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MiniLab 060 MiniLab 060系統(tǒng)是MiniLab系列中最·受歡迎的通用平臺，具有前開門式的箱式腔室，適用于多源磁控濺射，也適用于熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)。 MiniLab 060采用體化設(shè)計方案，真空腔體安裝在控制系統(tǒng)電子機(jī)柜上。系統(tǒng)可以配備各種沉積技術(shù)，包括熱蒸發(fā)和低溫蒸發(fā)源(生長金屬和有機(jī)物)，磁控濺射源(金屬和無機(jī))，電子束源(除有機(jī)物外的大多數(shù)材料類別)。沉積源通常安裝在腔室底部，但濺射源也可以采用頂部安裝的方式。樣品臺可容納的基片尺寸高達(dá)11英寸，可提供基片加熱、旋轉(zhuǎn)、偏壓和Z-shift?？膳渲眯行鞘綐悠放_、源擋板和基片擋板。系統(tǒng)配置可從手動操作的熱蒸發(fā)系統(tǒng)到具有全自動過程控制的多種生長方案。必要時MiniLab 060系統(tǒng)可提供快速進(jìn)樣室。 薄膜生長方式可選：熱蒸發(fā)（金屬）、低溫?zé)嵴舭l(fā)(有機(jī)物)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射（金屬、氧化物、氮化物、緣體） |
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MiniLab 080 MiniLab 080采用高腔體設(shè)計，非常適合熱蒸發(fā)、低溫?zé)嵴舭l(fā)和電子束蒸發(fā)，更長的工作距離以獲得更好的薄膜均勻性。 MiniLab 080真空腔體安裝于控制系統(tǒng)電子機(jī)柜上。該系統(tǒng)非常適用于需要較長的工作距離以獲得更好均勻性的蒸發(fā)技術(shù)。蒸發(fā)入射角接近90°，對于光刻器件獲得·好的lift off效果。除了熱蒸發(fā)、有機(jī)物熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)外，該系統(tǒng)還可以用于磁控濺射（用做復(fù)合生長系統(tǒng)）。 樣品臺通常在腔室的頂部，可以容納基片尺寸高達(dá)11英寸直徑。可提供基板加熱、旋轉(zhuǎn)、偏壓和Z-shift。可配置行星式樣品臺、源擋板和基片擋板。系統(tǒng)配置可從手動操作的熱蒸發(fā)系統(tǒng)到具有全自動過程控制的多種生長方案。必要時MiniLab 080系統(tǒng)可提供快速進(jìn)樣室。 薄膜生長方式可選：熱蒸發(fā)（金屬）、低溫?zé)嵴舭l(fā)(有機(jī)物)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射（金屬、氧化物、氮化物、緣體） |
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MiniLab 090 MiniLab 090系統(tǒng)是為兼容手套箱開發(fā)的，適用于對大氣敏感的薄膜生長。高腔室設(shè)計方案是高性能蒸發(fā)的理想選擇，同時也可以采用磁控濺射方式。 MiniLab 090系統(tǒng)是用于金屬、電介質(zhì)和有機(jī)物沉積的落地PVD系統(tǒng)。系統(tǒng)包含個箱式不銹鋼腔體，前、后雙開門設(shè)計可與手套箱集成，允許通過手套箱中前門或者外部的后門對系統(tǒng)進(jìn)行操作。真空腔體具有大的高寬比，非常適合通過蒸發(fā)技術(shù)進(jìn)行長工作距離的高均勻性涂層，但系統(tǒng)也可以配備磁控濺射。真空度于5×10-7mbar。針對客戶的預(yù)算和需求可提供非常靈活的配置。系統(tǒng)配置可從手動操作的熱蒸發(fā)系統(tǒng)到具有全自動過程控制的多種生長方案。 薄膜生長方式可選：熱蒸發(fā)（金屬）、低溫?zé)嵴舭l(fā)(有機(jī)物)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射（金屬、氧化物、氮化物、緣體） |
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MiniLab 125 MiniLab 125系統(tǒng)將模塊化設(shè)計概念帶進(jìn)了中試規(guī)模。大的腔室允許增加組件的尺寸，進(jìn)而滿足大面積涂層需求，結(jié)合快速進(jìn)樣室設(shè)計方案，可提高樣品的吞吐量。同時，系統(tǒng)是*可定制化的，以匹配定的鍍膜需求。 MiniLab 125系統(tǒng)是落地式真空鍍膜設(shè)備可用于金屬、電介質(zhì)和有機(jī)薄膜沉積。系統(tǒng)包含個帶有前門的箱式不銹鋼腔體，用于取放樣品。大的腔室體積可以用于中試規(guī)模的涂層或采用較為復(fù)雜的配置滿足靈活多變的實驗需求。系統(tǒng)可安裝所有主要的沉積組件或定制的組件。系統(tǒng)的本底真空可達(dá)5×10-7mbar?？筛鶕?jù)用戶的預(yù)算和具體應(yīng)用采用靈活的配置方案。 薄膜生長方式可選：熱蒸發(fā)（金屬）、低溫?zé)嵴舭l(fā)(有機(jī)物)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射（金屬、氧化物、氮化物、緣體） |
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