等離子體增強化學(xué)氣相沉積鍍膜系統(tǒng) 參考價：面議
等離子體增強化學(xué)氣相沉積鍍膜系統(tǒng)通常選用射頻淋浴源（RF）或帶有不規(guī)則氣體分布的空心陰極射頻等離子體源作為反應(yīng)源產(chǎn)生等粒子體。部分PECVD可以升級到PECVD...
等離子體增強原子層沉積鍍膜系統(tǒng) 參考價：面議
等離子體增強原子層沉積鍍膜系統(tǒng)一個基本的原子層沉積循環(huán)包括四個步驟：脈沖A，清洗A，脈沖B和清洗B。沉積循環(huán)不斷重復(fù)直至獲得所需的薄膜厚度，是制作納米結(jié)構(gòu)從而形...
脈沖激光分子束外延鍍膜系統(tǒng) 參考價：面議
脈沖激光分子束外延鍍膜系統(tǒng)憑借著優(yōu)異的性能, PVD公司生產(chǎn)的脈沖激光沉積分子束外延系統(tǒng)在國內(nèi)外擁有較多用戶，為眾多老師開啟薄膜外延制備的新篇章。
脈沖激光沉積鍍膜系統(tǒng) 參考價：面議
脈沖激光沉積鍍膜系統(tǒng)真空腔內(nèi)照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)，然后被堆積到設(shè)在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有...
反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備 參考價：面議
反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備為達到此目的，必須對真空度，氣體流量，離子加速電壓等進行佳調(diào)整，同時，為得到高密度的等離子體，需用磁控管施加磁場，以提高加工能力。我司提供多型號...
多通道切換器-德國氣溶膠設(shè)備 參考價：面議
多通道切換器-德國氣溶膠設(shè)備多取樣系統(tǒng)MSS 08使中心測量裝置（例如，UF-CPC或ENVI-CPC）能夠連接多達八個不同的取樣端口，并且它們之間易于切換。這...
溫濕度控制器-德國氣溶膠設(shè)備 參考價：面議
溫濕度控制器-德國氣溶膠設(shè)備DLB 2000，在實踐中確立，確保全自動調(diào)節(jié)RLE。濕度與頂部穩(wěn)定性。輸入所需的Rel.濕度和溫度的設(shè)定使用觸摸屏顯示器進行。必須...
軟離化中和器-德國氣溶膠設(shè)備 參考價：面議
軟離化中和器-德國氣溶膠設(shè)備XRC 049是基于X射線電離的中和器。它可以以與Kr-85-370（例如在SMPS系統(tǒng)中）相同的方式使用，即當(dāng)測量任務(wù)需要氣溶膠的...
飛行時間二次離子質(zhì)譜2-材料表征 參考價：面議
飛行時間二次離子質(zhì)譜2-材料表征飛行時間二次離子質(zhì)譜是一種靈敏的表面分析技術(shù)，可以廣泛應(yīng)用于物理，化學(xué)，微電子，生物，制藥，空間分析等工業(yè)和研究方面。TOF-S...
快速淬滅動力學(xué)分析儀-分子生物學(xué) 參考價：500000
快速淬滅動力學(xué)分析儀-分子生物學(xué)-酶機理反應(yīng)它已成為檢查酶反應(yīng)途徑的方法。KinTek RQF-3淬火流動儀能夠有效地進行最明確的實驗，保存珍貴的生物樣品并提供...
煙霧發(fā)生器1-德國氣溶膠設(shè)備 參考價：面議
煙霧發(fā)生器1-德國氣溶膠設(shè)備此系統(tǒng)致力于煙霧的研究，廣泛應(yīng)用在各國授權(quán)的煙火研究分析實驗室，專業(yè)分析高標(biāo)準(zhǔn)濾材。 某些特殊行業(yè)需要超高潔凈度，對濾材要求高，例如...
塵埃粒子計數(shù)器-德國氣溶膠設(shè)備 參考價：面議
塵埃粒子計數(shù)器-德國氣溶膠設(shè)備PZG系列,采樣量 100 LPM,可以得到靈敏度0.3 μm . （或者: 28.3 LPM = 1.0 CFM, 靈敏度可達0...
氣溶膠發(fā)生器（粉塵,碳黑）-德國設(shè)備 參考價：面議
氣溶膠發(fā)生器（粉塵,碳黑）-德國設(shè)備 輸送和擴散是產(chǎn)生氣溶膠的兩個重要的過程。1975年，Zahradnicek全面的研究了產(chǎn)生氣溶膠的不同方法。但是沒有任何方...
氣溶膠粒徑譜儀-德國設(shè)備 參考價：面議
氣溶膠粒徑譜儀-德國設(shè)備本系統(tǒng)采用均勻的氙燈白光源,氣溶膠粒子流經(jīng)過光源,產(chǎn)生光散射效應(yīng),90度散射角進行檢測,軟件采用全程的Mie式理論計算,得到粒徑大小的體...
單探頭氣溶膠粒徑譜儀-德國設(shè)備 參考價：面議
單探頭氣溶膠粒徑譜儀-德國設(shè)備粒子計數(shù)和粒徑分布可以同時得到,互不干擾.這是高精度氣溶膠粒徑譜儀1的 重要的要求. 新型的T型孔傳感器技術(shù),*次解決了消除邊緣效...
原子層沉積鍍膜系統(tǒng) 參考價：面議
原子層沉積鍍膜系統(tǒng)1.ALD （傳統(tǒng)的熱原子層沉積）；2.PEALD （等離子增強原子層沉積）；3.Powder ALD （粉末樣品的原子層沉積）；
無掩膜曝光機-光刻機 參考價：面議
無掩膜曝光機-光刻機美國IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗和多項無掩模曝光技術(shù)，已成為無掩...
勻膠機、旋涂儀（德國產(chǎn)、高性能） 參考價：面議
勻膠機、旋涂儀（德國產(chǎn)、高性能）SPIN150i單片勻膠機/旋涂儀具有廣泛應(yīng)用，包括甩干，沖洗，清潔，涂膠。臺式設(shè)計，無縫全塑料材質(zhì)， 有天然聚丙烯（NPP）和...
顯影機-勻膠機 參考價：面議
顯影機-勻膠機顯影機 /濕法刻蝕機德國品質(zhì)（配有防污染內(nèi)襯，標(biāo)配兩個大小吸盤，性能優(yōu)于美國同類品牌）高精度，高可靠性，耐腐蝕，來源德國，多程序控制。
半球電子能量分析器-真空組件 參考價：面議
半球電子能量分析器-真空組件半球電子能量分析器半徑: 120mm反轉(zhuǎn)角度: 180 deg.
皮可安培計（USB接口）-材料表征 參考價：面議
皮可安培計（USB接口）-材料表征技術(shù)參數(shù)：接口輸入: BNC; 模擬輸出偏壓選項：無偏壓/ 內(nèi)置偏壓 （± 90 V DC）/ 外置偏壓 （BNC）
磁控濺射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空組件 參考價：面議
磁控濺射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空組件磁控濺射源/靶槍（1英寸/2英寸/3英寸）我們提供多種口徑的圓形平面靶槍,尺寸1“, 2“ and 3“. 以及矩...
真空腔體水氣解吸附組件2 參考價：面議
真空腔體水氣解吸附組件2ZCUVE代表了水蒸氣解吸技術(shù)的新進展。*的設(shè)計可從2.75“擴展到8"法蘭尺寸，紫外線功率因數(shù)w按比例增加
射頻離子/原子源（可轉(zhuǎn)換）-真空組件 參考價：面議
射頻離子/原子源（可轉(zhuǎn)換）-真空組件射頻離子源：用于離子束沉積，離子束輔助沉積，MEMS射頻原子源：用于合成氧化物，氮化物，氫原子清洗(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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