球磨測(cè)厚儀-測(cè)試設(shè)備 參考價(jià)：面議
球磨測(cè)厚儀-測(cè)試設(shè)備控制單元自帶可編程的微處理器:速度，時(shí)間，球型，X，Y直徑，自帶LED光源，目鏡小刻度為0.02mm，自動(dòng)厚度校準(zhǔn)，工作時(shí)間范圍：1-30m...
涂層附著力檢測(cè)儀-測(cè)試設(shè)備 參考價(jià)：面議
涂層附著力檢測(cè)儀-測(cè)試設(shè)備1.快速簡易：壓痕并觀察壓痕效果2.高性價(jià)比：寶石探針消耗低（劃痕儀的10倍使用壽命）
摩擦學(xué)測(cè)試設(shè)備 參考價(jià)：面議
摩擦學(xué)測(cè)試設(shè)備目的是滿足摩擦學(xué)的需要。為了增加機(jī)械部件的性能和可靠性，公司和大學(xué)研究越來越多的涂層和基底材料的摩擦參數(shù)和磨耗阻力。針對(duì)客戶的需求，我們開發(fā)了多種...
界面力學(xué)分析儀-材料表征 參考價(jià)：面議
界面力學(xué)分析儀-材料表征界面力學(xué)分析儀可以用來直接測(cè)量表面（諸如：無機(jī)物，金屬，氧化物，聚合物，玻璃，生物分子界面等）間靜態(tài)力和動(dòng)態(tài)力，并在分子級(jí)領(lǐng)域內(nèi)研究界面...
飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜-材料表征 參考價(jià)：面議
飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜-材料表征飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜是一種非常靈敏的表面分析技術(shù)?？梢詮V泛應(yīng)用于物理，化學(xué)，微電子，生物，制藥，空間分析等工業(yè)和研究方面。TOF-...
全自動(dòng)貼片機(jī)-材料設(shè)備 參考價(jià)：面議
全自動(dòng)貼片機(jī)-材料設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)放大是持續(xù)可調(diào)的。這通過可調(diào)放大倍率達(dá)到高精度的放置器件。該款是一款堅(jiān)固并且可靠的機(jī)械設(shè)計(jì)，操作簡易，兼容性高的產(chǎn)品。
劃片機(jī)-材料設(shè)備 參考價(jià)：面議
劃片機(jī)-材料設(shè)備沿著中心線升高以便分離。薄膜層幫助元件阻攔污染或重壓。全部參數(shù)都由控制鍵盤設(shè)定。這是一款穩(wěn)定，抗振動(dòng)，和易操作的設(shè)備。
大氣環(huán)境光電子發(fā)射光譜-材料表征 參考價(jià)：面議
大氣環(huán)境光電子發(fā)射光譜-材料表征1、大氣環(huán)境下使用2、功能：光電子發(fā)射光譜+開爾文探針3、測(cè)試能級(jí)：費(fèi)米能級(jí)，導(dǎo)帶底能量，價(jià)帶頂能量，HOMO-LUMO，禁帶寬...
薄膜電阻及厚度測(cè)試設(shè)備 參考價(jià)：面議
薄膜電阻及厚度測(cè)試設(shè)備可按照需求配置單個(gè)或多個(gè)針對(duì)不同樣品的高敏感探頭進(jìn)行測(cè)量，并通過顯示模塊輸出。檢測(cè)終輸出結(jié)果可顯示為薄膜電阻（Ohms/sq），薄膜電導(dǎo)（...
俄歇電子能譜及電子衍射分析系統(tǒng)-材料表征 參考價(jià)：面議
俄歇電子能譜及電子衍射分析系統(tǒng)-材料表征俄歇電子能譜及低能電子衍射分析系統(tǒng)電子槍：型號(hào) ：帶可調(diào)焦距和束斑直徑的雙靜電透鏡束流電壓：0-3KV束流電流：大50u...
表面光電壓譜系統(tǒng)-材料表征 參考價(jià)：面議
表面光電壓譜系統(tǒng)-材料表征表面光電壓譜系統(tǒng)150瓦直流可控光強(qiáng)的石英鹵素?zé)艨梢赃_(dá)到開路電位來評(píng)估卷對(duì)卷硅太陽能電池的質(zhì)量，全數(shù)字化控制所有參數(shù)，包括光照強(qiáng)度和波...
超高真空開爾文探針-材料表征 參考價(jià)：面議
超高真空開爾文探針-材料表征開爾文探針是一種非接觸、非破壞性振動(dòng)電容裝置用于導(dǎo)電材料的功函或半導(dǎo)體或絕緣體材料表面的表面電勢(shì)，
氣氛可控開爾文探針-材料表征 參考價(jià)：面議
氣氛可控開爾文探針-材料表征氣氛可控開爾文探針RHC020 氣氛控制掃描開爾文探針是控制氣氛檢測(cè)樣品的理想解決方案，50x50mm樣品加熱器可將樣品溫度升至10...
深能級(jí)瞬態(tài)譜儀-半導(dǎo)體表征 參考價(jià)：面議
深能級(jí)瞬態(tài)譜儀-半導(dǎo)體表征半導(dǎo)體領(lǐng)域研究和檢測(cè)半導(dǎo)體雜質(zhì)、缺陷深能級(jí)、界面態(tài)等的重要技術(shù)手段。根據(jù)半導(dǎo)體P-N 結(jié)、金－半接觸結(jié)構(gòu)肖特基結(jié)的瞬態(tài)電容（△C～t）...
激光直寫無掩膜光刻機(jī) 參考價(jià)：面議
激光直寫無掩膜光刻機(jī)紫外光直寫曝光 ，無需掩模，大幅節(jié)約了掩模加工費(fèi)用，靈活性高，可直接通過電腦設(shè)計(jì)光刻圖形，并可根據(jù)設(shè)計(jì)要求隨意調(diào)整，可升級(jí)開放性系統(tǒng)設(shè)計(jì)，按...
全自動(dòng)光刻機(jī) 參考價(jià)：面議
全自動(dòng)光刻機(jī)公司開發(fā)并生產(chǎn)用于半導(dǎo)體、MEMS、LED及納米技術(shù)相關(guān)的實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)領(lǐng)域的光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)和甩膠機(jī)，是韓國*家研發(fā)并商業(yè)化光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)的企業(yè)，始終...
納米壓印系統(tǒng)-光刻機(jī) 參考價(jià)：面議
納米壓印系統(tǒng)-光刻機(jī)介紹了一個(gè)臺(tái)式、獨(dú)立的納米壓印平臺(tái)。該平臺(tái)提供了一個(gè)帶有微型定位夾具的機(jī)械平臺(tái)，用于安裝納米壓印室、紫外線固化
mask aligner半自動(dòng)光刻機(jī) 參考價(jià)：面議
mask aligner半自動(dòng)光刻機(jī)該公司是目前世界上早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究...
spin coater勻膠機(jī) 參考價(jià)：面議
spin coater勻膠機(jī)既在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)...
硅穿孔工藝設(shè)備-光刻機(jī) 參考價(jià)：面議
硅穿孔工藝設(shè)備-光刻機(jī)晶圓和晶圓之間制作垂直導(dǎo)通，實(shí)現(xiàn)芯片之間互連的新技術(shù)。能夠使芯片在三維方向堆疊的密度大，芯片之間的互連線短，外形尺寸小，并且大大改善芯片速...
大氣等離子體系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
大氣等離子體系統(tǒng)機(jī)器人工業(yè)化設(shè)計(jì)中使用的*定制單元：10米線便可輕松集成至各種系統(tǒng)中的PS2000高壓單元和PB3等離子體發(fā)生器。
手持低溫等離子體源 參考價(jià)：面議
手持低溫等離子體源--基于壓電變壓器直接放電，同時(shí)在元件的輸出端直接產(chǎn)生冷等離子，等離子通過電離空氣或氣體來形成。
集成式低溫等離子體源 參考價(jià)：面議
集成式低溫等離子體源--基于壓電變壓器直接放電，同時(shí)在元件的輸出端直接產(chǎn)生冷等離子，等離子通過電離空氣或氣體來形成。
空氣監(jiān)測(cè)系統(tǒng)-氣溶膠設(shè)備（德國） 參考價(jià)：面議
空氣監(jiān)測(cè)系統(tǒng)-氣溶膠設(shè)備（德國）空氣監(jiān)測(cè)系統(tǒng)NO, NO2, O3, CO, SO2, 探頭區(qū)域溫度，氣壓，相對(duì)濕度，平均噪音，峰值噪音，顆粒計(jì)數(shù)，PM1， P...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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