雙探頭氣溶膠粒徑譜儀-（德國(guó)設(shè)備） 參考價(jià)：500000
雙探頭氣溶膠粒徑譜儀-（德國(guó)設(shè)備）雙傳感器進(jìn)行過(guò)程測(cè)量和監(jiān)測(cè)應(yīng)用的散射光氣溶膠譜儀系統(tǒng)Promo®是一種用于粒度分析和濃度測(cè)定的光散射氣溶膠光譜儀系統(tǒng)...
掃描電遷移率粒徑譜儀-氣溶膠設(shè)備（德國(guó)） 參考價(jià)：面議
掃描電遷移率粒徑譜儀-氣溶膠設(shè)備（德國(guó)）納米顆粒粒徑譜儀? 氣溶膠測(cè)量粒徑分布， 3 nm to 1.2 μm? 可連續(xù)快速操作? 高分辨率： 64通道? 測(cè)量...
ISO16890濾料測(cè)試系統(tǒng)-氣溶膠設(shè)備（德國(guó)） 參考價(jià)：面議
ISO16890濾料測(cè)試系統(tǒng)-氣溶膠設(shè)備（德國(guó)）ISO16890濾料測(cè)試系統(tǒng)不同系統(tǒng)配置可用于測(cè)試濾料、小型過(guò)濾元件、高效過(guò)濾器、一般通風(fēng)過(guò)濾器、壓縮空氣過(guò)濾器...
mask aligner半自動(dòng)光刻機(jī) 參考價(jià)：面議
mask aligner半自動(dòng)光刻機(jī)該公司是目前世界上早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究...
深能級(jí)瞬態(tài)譜儀-半導(dǎo)體表征 參考價(jià)：面議
深能級(jí)瞬態(tài)譜儀-半導(dǎo)體表征半導(dǎo)體領(lǐng)域研究和檢測(cè)半導(dǎo)體雜質(zhì)、缺陷深能級(jí)、界面態(tài)等的重要技術(shù)手段。根據(jù)半導(dǎo)體P-N 結(jié)、金－半接觸結(jié)構(gòu)肖特基結(jié)的瞬態(tài)電容（△C～t）...
開(kāi)爾文探針掃描系統(tǒng)-半導(dǎo)體表征 參考價(jià)：面議
開(kāi)爾文探針掃描系統(tǒng)-半導(dǎo)體表征開(kāi)爾文探針掃描系統(tǒng)是一種非接觸無(wú)損震蕩電容裝置，用于測(cè)量導(dǎo)體材料的功函數(shù)(Work Function)或半導(dǎo)體、絕緣表面的表面勢(shì)(...
多功能磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
多功能磁控濺射鍍膜儀(濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā))多種薄膜沉積設(shè)備，PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)等。
脈沖激光外延制備鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
脈沖激光外延制備鍍膜系統(tǒng)脈沖激光外延制備系統(tǒng)憑借著優(yōu)異的性能, PVD公司生產(chǎn)的脈沖激光沉積分子束外延系統(tǒng)在國(guó)內(nèi)外擁有較多用戶，為眾多老師開(kāi)啟薄膜外延制備的新篇...
勻膠機(jī)，旋涂?jī)x 參考價(jià)：面議
勻膠機(jī)，旋涂?jī)x其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同, 也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。
納米顆粒探測(cè)器-氣溶膠設(shè)備（德國(guó)） 參考價(jià)：100000
納米顆粒探測(cè)器-氣溶膠設(shè)備（德國(guó)）最小的多尺度納米顆粒探測(cè)器，使用雙非接觸檢測(cè)量級(jí)，不僅測(cè)量肺沉積表面積（LDSA），還測(cè)量顆粒數(shù)濃度和平均粒徑。此外，還計(jì)算和...
納米壓印系統(tǒng)-光刻機(jī) 參考價(jià)：面議
納米壓印系統(tǒng)-光刻機(jī)介紹了一個(gè)臺(tái)式、獨(dú)立的納米壓印平臺(tái)。該平臺(tái)提供了一個(gè)帶有微型定位夾具的機(jī)械平臺(tái)，用于安裝納米壓印室、紫外線固化
IG2離子源-超高真空 參考價(jià)：面議
IIG2離子源-超高真空典型應(yīng)用是氬離子濺射清洗表面（中科院物理所配置多套IG2型離子源）濺射清洗 /表面準(zhǔn)備，用于表面科學(xué)，MBE ，高真空濺射過(guò)程離子輔助沉...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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