目錄:林賽斯（上海）科學(xué)儀器有限公司>>熱膨脹儀>>高溫膨脹儀>> L75 / High Pressure高溫膨脹儀
| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
為了測量數(shù)據(jù)和拓寬測量范圍，可以使用QMS和FTIR對逸出的氣體進行分析。耦合后的功能超過單獨部件的總和。用戶通過LINSEIS耦合技術(shù)和綜合硬件和軟件，采用不同數(shù)據(jù)庫對數(shù)據(jù)進行分析以得到*的結(jié)果。
L75 / High Pressure高溫膨脹儀技術(shù)參數(shù)：
型號 | DIL L75 HP / 1 | DIL L75 HP/2 |
溫度范圍* | RT -- 1100°C | RT -- 1400/1800°C |
zui大壓力 | zui大150 bar | zui大100 bar |
真空 | 10E-4 mbar | 10E-4 mbar |
樣品支架 | 熔融石英 < 1100°C | 熔融石英 < 1100°C |
Al2O3 < 1750°C | Al2O3 < 1750°C | |
zui大樣品長度 | 50 mm | 50 mm |
樣品直徑 | 7/12/20 mm | 7/12/20 mm |
可調(diào)樣品壓力 | zui大 1000 mN | zui大 1000 mN |
測量范圍 | 500 / 5000 µm | 500 / 5000 µm |
分辨率 | 0.125 nm | 0.125 nm |
可選裝置 | 壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC′s) | 壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC′s) |
氣氛 | 惰性, 氧化性, 還原性, 真空 | 惰性, 氧化性, 還原性, 真空 |
* 取決于不同爐體
* 不適用于石墨加熱爐
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