您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)
行業(yè)產(chǎn)品
歡迎: | 您已成功登錄: 進入管理退出登錄收藏該商鋪
北京瑞科中儀科技有限公司
13810961731
目錄:北京瑞科中儀科技有限公司>>刻蝕機>> 反應離子蝕刻設備
應用領域:環(huán)保,化工,電子
更新時間:2024-07-10 13:55:49瀏覽次數(shù):836評價
聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
原子層蝕刻設備
感應耦合電漿蝕刻
反應離子蝕刻設備
RIE等離子刻蝕機SI 591
產(chǎn)品分類品牌分類
日本傾斜角刻蝕
英國光柵刻蝕
進口深硅刻蝕
產(chǎn)品簡介
詳細介紹
反應離子蝕刻設備(RIE)中可以非常精確地控制其蝕刻輪廓、蝕刻速率和均勻性,並具有重複性。等向性蝕刻以及非等向性蝕刻都是可能的。
因此,RIE製程是化學物理蝕刻製程,也是半導體製造中用於構造各種薄膜的最重要製程。SYSKEY的系統(tǒng)可以精準的控制製程氣體與電漿製程,並提供高品質的薄膜。
反應離子蝕刻設備參數(shù)
基礎電漿研究。
III-V族化合物半導體蝕刻(GaAsn,InP,GaN)。
Si,SiO2,SiNx 蝕刻。
微機電系統(tǒng)。
金屬與矽的蝕刻。
陽極電鍍處理鋁腔。
通過使用水冷系統(tǒng)、加熱器或加熱包來控制腔體溫度。
客製化的基板尺寸,最大直徑可達12寸晶圓。
單載片或多載片。
優(yōu)異的薄膜均勻度小於±5%。
精準流量控制器,氣體分佈高度均勻,最多可容納6條氣體管線。
穩(wěn)定的溫度控制,將載盤加熱至400°C或冷卻至-20°C。
渦輪分子幫浦。
蝕刻終點偵測(OES,激光)相容性。
即刻搜索您想要找尋的產(chǎn)品
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
(空格分隔,最多3個,單個標簽最多10個字符)
詢價產(chǎn)品
請輸入你感興趣的產(chǎn)品
請簡單描述您的需求
請選擇省份
我們將在第一時間聯(lián)系您
手機+驗證碼登錄采購后臺
請勿重復留言!
產(chǎn)品規(guī)格
產(chǎn)品屬性
首頁
展臺
留言
聯(lián)系方式
如需緊急咨詢,歡迎您的來電
聯(lián)系方式:13810961731