光刻膠-2-乙基-2-金剛烷基丙烯酸酯
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光刻膠-2-乙基-2-金剛烷基丙烯酸酯
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。在光刻工藝過(guò)程中,用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時(shí),若采用適當(dāng)?shù)挠羞x擇性的光刻膠,可在表面上得到所需的圖像。
中文名稱:2-乙基-2-金剛烷基丙烯酸酯
英文名稱:2-Ethyl-2-adamantyl acrylate
CAS號(hào):303186-14-3
分子量:234.33400
密度:1.06g/cm3
沸點(diǎn):301.864oC at 760 mmHg
分子式:C15H22O2
熔點(diǎn):N/A
MSDS:N/A
閃點(diǎn):123.039oC
納米氧化物復(fù)合材料光刻膠
紫外光刻膠
深紫外光刻膠
不飽和電子束光刻膠類(lèi)型
降解型(正性)光刻膠
交聯(lián)型(負(fù)性)光刻膠
聚物SU-8光刻膠
聚合物AZ4620光刻膠
環(huán)氧型負(fù)性光刻膠HTIN 683
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