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等離子清洗機半導(dǎo)體封裝處理

時間:2022/5/25閱讀:288
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等離子處理設(shè)備清洗晶圓表面的顆粒、有機物、金屬雜質(zhì)、氧化物,半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過程中,受材料、工藝以及環(huán)境的影響,晶圓芯片表面會存在肉眼看不到的各種微粒、有機物、氧化物及殘留的磨料顆粒等沾污雜質(zhì),而等離子清洗機是合適的清潔工藝處理方法。等離子清洗機在不破壞晶圓芯片及其他所用材料的表面特性、熱學(xué)特性和電學(xué)特性的前提下,清洗去除晶圓芯片表面的有害沾污雜質(zhì)物,晶圓等離子清洗機,等離子灰化、去光刻膠、聚合物剝離、預(yù)處理、介電質(zhì)刻蝕、晶圓凸點、有機污染去除、晶圓減薄

離子清洗機應(yīng)對晶元表面的親水改善,以及表面光刻膠的去除。等離清洗機應(yīng)用于電子行業(yè)的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等,通過等離子清洗機的表面處理,能夠改善材料表面的潤濕能力,使多種材料能夠進行涂覆、涂鍍等操作,增強粘合力、鍵合力,同時去除有機污染物、油污或油脂.

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plasma等離子清洗機控制能力強,一致性好,不但能去除光刻膠和其它有機物,而且能活化)粗化晶片表面,提高晶片表面的浸潤性。



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