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04-16如何優(yōu)化PECVD等離子體增強氣相沉積過程以提高薄膜質量和沉積均勻性?
PECVD等離子體增強氣相沉積是一種廣泛應用于制備薄膜材料的技術。為提高薄膜質量和沉積均勻性,可從以下幾個關鍵方面進行優(yōu)化。一、工藝參數(shù)的精細調控1、功率控制射頻(RF)功率是PECVD等離子體增強氣...2025
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