CVD氣相沉積采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和40段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，管式爐雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，能快速升降溫，采用99剛玉管、兩端用不銹鋼法蘭密封，用浮子流量計控制進(jìn)氣流量、該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)。適用于銅鎢合金、鋁鎳鈷永磁、釹鐵硼、碳纖維石墨化，碳碳復(fù)合材料，碳化硅制品，鎢鉬及其他合金材料的真空或氣氛高溫?zé)Y(jié)，也可作為其他金屬材料的熱處理及氣相沉積。