當前位置:上海添時科學儀器有限公司>>雷博科學儀器>>工業(yè)半導體設(shè)備>> 全自動標準2-6寸勻膠顯影機
大型勻膠/顯影機
顯影是指用還原劑把軟片或印版上經(jīng)過曝光形成的潛影顯現(xiàn)出來的過程。PS版的顯影則是在印版圖文顯現(xiàn)出來的同時,獲得滿足印刷要求的印刷版面和版面性能。顯影機是將曬制好的印版通過半自動和全自動的程序?qū)@影、沖洗、涂膠、烘干等工序一次性部分或全部完成的印刷處理設(shè)備。
產(chǎn)品介紹
適用于2至6英寸晶圓的勻膠顯影工藝
最大設(shè)備配置:4套勻膠(顯影)、10套熱(冷)板單元
6寸以下wafer全自動勻膠/顯影,烘烤全自動工藝處理
整機適合產(chǎn)能要求較高的批量產(chǎn)線
根據(jù)客戶工藝需求可加裝溫濕度控制、離子風棒等模塊
可選配MES協(xié)議轉(zhuǎn)換模塊
產(chǎn)品參數(shù)
旋轉(zhuǎn)速度范圍:20-5000rpm
加速度范圍:20-20000rpm/s
轉(zhuǎn)速精度:±1rpm
熱盤溫度范圍:50℃-200℃
熱盤溫度均勻性:±1%
冷盤溫度范圍:20°℃-25°℃
冷盤溫度均勻性:±0.2℃
光刻膠粘度:0-1000Cp(可選高粘度光膠機臺)
膠泵類型:氣動或電動膠泵
光刻膠或顯影液管路:≤3路
流量監(jiān)控:浮子式流量計(可選配超聲流量計)
設(shè)備尺寸:1860mm(W)x1700mm(D)x2100mm(H)