目錄:北京昊然偉業(yè)光電科技有限公司>>應(yīng)力儀>>應(yīng)力雙折射Exicor-OIA>> OIA殘余應(yīng)力測量
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子,綜合 |
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利用光彈調(diào)制器技術(shù)，Hinds 公司的應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)(殘余應(yīng)力測量)可以在深紫外（193nm）波段進(jìn)行應(yīng)力雙折射探測。針對特定材料制作（氟化鈣）和特定形狀（非球面透鏡）的技術(shù)解決方案。
應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)，非球面透鏡應(yīng)力雙折射測量，應(yīng)力橢偏儀，應(yīng)力橢偏測量,殘余應(yīng)力測量
Hinds 公司的不規(guī)則非球面光學(xué)元件應(yīng)力分布測量系統(tǒng)（應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)）通過對光的調(diào)制解調(diào)可以測出待測光學(xué)元件中的雙折射大小和方向，這些數(shù)據(jù)同時也表示了應(yīng)力的大小和方向。Hinds 公司這套不規(guī)則非球面光學(xué)元件應(yīng)力分布測量系統(tǒng)的傾斜，多角度入射掃描技術(shù)可以保證對非球面不規(guī)則的光學(xué)元件（光刻機(jī)透鏡等）有著的掃描測量解決方案。
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