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化學氣相沉積CVD技術簡介

時間：2023/10/24閱讀：976
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化學氣相沉積（CVD）技術是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術。在典型的CVD工藝過程中，把一種或多種蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下發(fā)生化學反應并在襯底表面形成需要的薄膜。由于CVD技術具有成膜范圍廣、重現(xiàn)性好等優(yōu)點，被廣泛用于多種不同形態(tài)的成膜。北方華創(chuàng)微電子憑借十余年的微電子領域精密工藝設備開發(fā)經(jīng)驗，致力于為集成電路、半導體照明、微機電系統(tǒng)、功率半導體、化合物半導體、新能源光伏等領域提供各種類型的CVD設備，滿足客戶多種制造工藝需求。北方華創(chuàng)微電子開發(fā)的臥式PECVD 已成功進入海外市場，為多家*光伏制造廠提供解決方案。而硅外延設備在感應加熱高溫控制技術、氣流場、溫度場模擬仿真技術等方面取得了重大的突破，達成了優(yōu)秀的外延工藝結(jié)果，獲得多家國內(nèi)主流生產(chǎn)線批量采購。面向LED領域介質(zhì)膜沉積的PECVD設備，憑借優(yōu)秀的工藝性能和產(chǎn)能優(yōu)勢，已成為LED客戶擴產(chǎn)優(yōu)選設備。

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