GA-5000nao型 氨逃逸一體化在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
GA-5000nao氨逃逸一體化在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)(NH3、NO、O2)基于可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜(TDLAS)和紫外差分吸收光譜(DOAS)技術(shù)原理。
GA-5000nao型 氨逃逸一體化在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
產(chǎn)品概述:
GA-5000nao氨逃逸一體化在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)(NH3、NO、O2)基于可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜(TDLAS)和紫外差分吸收光譜(DOAS)技術(shù)原理。系統(tǒng)包括預(yù)處理、氣體分析模塊和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。被測(cè)氣體經(jīng)過高溫采樣探頭除塵、伴熱管高溫傳輸、進(jìn)入高溫氣體分析模塊(TDLAS+DOAS技術(shù))分析測(cè)量。有效的解決了銨鹽低溫結(jié)晶堵塞流路,冷凝水析出溶解NH3導(dǎo)致的測(cè)量精度偏低,原位式系統(tǒng)高粉塵衰減光路導(dǎo)致無法測(cè)量等技術(shù)難題。
GA-5000nao型 氨逃逸一體化在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
技術(shù)規(guī)格:
測(cè)量技術(shù):可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜(TDLAS)技術(shù)
紫外差分吸收光譜 (DOAS)技術(shù)+氧化鋯
量程范圍:
Nh3:0~10~1000ppm
No:0~50~5000ppm
O2:0~25%
線性誤差:≤±1%F.S.
重復(fù)性:≤1%
零點(diǎn)漂移:≤±1%F.S./半年
量程漂移:≤±1%F.S./半年
響應(yīng)時(shí)間:<90s(T90)
模擬量輸出:5路4-20mA輸出
模擬量輸入:3路4-20mA輸入
數(shù)字通訊:RS485/RS232/GPRS
檢測(cè)下限:0.1ppm(10m光程)
吹掃氣源:(0.4~0.8)MPa氮?dú)?、凈化儀表空氣
產(chǎn)品特點(diǎn):
“單線光譜”吸收技術(shù)避免背景氣體干擾、檢測(cè)下限低、量程漂移小
220℃以上伴熱避免銨鹽結(jié)晶及水份吸收
結(jié)構(gòu)緊湊、便于安裝,自動(dòng)化程度高、維護(hù)量小
多參數(shù)集成于同一系統(tǒng),同時(shí)測(cè)量成本低
產(chǎn)品應(yīng)用:
適用于包括燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、玻璃廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠、化工廠等SCR或SNCR脫硝裝置的氨氣逃逸排放監(jiān)測(cè)和過程控制