原子層沉積系統(tǒng) 返回列表頁

SAL1000G原子層沉積系統(tǒng)特點(diǎn)：

- 多樣性 -

· 真空可移動(dòng)的手套箱可以處理易氧化的樣品。

· 前驅(qū)體標(biāo)配兩組閥門和氣瓶。

· 可選擇將前驅(qū)體加熱至200攝氏度。

· 可選擇基片自動(dòng)旋轉(zhuǎn)支架。

· 可選擇粉體沉積配件。

· 可選擇經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的廢氣處理設(shè)備。

- 表現(xiàn) -

· 保證基片表面上的每個(gè)均勻原子層針孔自由層沉積。

· 通過階梯覆蓋沉積在不均勻或3D形狀的表面。

· 與CVD和PVD相比，可以獲得更好的沉積，特別是對(duì)于具有更高縱橫比和多孔沉積材料。

- 操作界面友好 -

· 觸摸屏使用戶可以輕松設(shè)置配方或沉積過程，并檢查每個(gè)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)。

· 可進(jìn)行自動(dòng)沉積，并在沉積完成后自動(dòng)完成N2排放。

· 手套箱的真空排氣和惰性氣體的引入也可自動(dòng)完成。

- 安全性 -

· 這是具有各種互鎖功能的高級(jí)設(shè)備。

- 具有輕柔關(guān)閉功能的頂部艙口使用戶可以輕松地裝載和卸載基片。

SAL1000G原子層沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：