那諾中國(guó)有限公司
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Plasma Source等離子體源

參  考  價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

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所  在  地國(guó)外

更新時(shí)間：2023-11-13 13:27:49瀏覽次數(shù)：2584次

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NANO-MASTER （那諾-馬斯特）可根據(jù)客戶需求，提供合適的Plasma Source等離子體源，可以是空心陰極等離子源，也可以是感應(yīng)耦合等離子源。等離子源可應(yīng)用于離子輔助鍍膜、等離子聚合、等離子清潔、等離子刻蝕、表面改性以及其他材料科學(xué)的研究等等。

Plasma Source等離子體源

離子源類(lèi)型

特征

應(yīng)用

選項(xiàng)

Plasma Source等離子體源1:

NANO-MASTER

淋浴頭等離子體源SH-1000

  • 射頻淋浴頭等離子體源
  • 氣體通過(guò)射頻板
  • 二級(jí)板將其他氣體引入等離子體
  • 水冷卻
  • 至大600瓦
  • 可在0.02托至8托之間操作
  • 8英寸有效區(qū)域
  • ISO 250法蘭

 

 

2:

空心陰極13.56 MHz射頻等離子體源

 

  • 支持?jǐn)U展功率和氣壓范圍操作
  • 高濃度高活性高均勻性等離子體（1011 cm-3）
  • 兼容化學(xué)反應(yīng)和非化學(xué)反應(yīng)氣體
  • 等幅波和脈沖電源
  • 低污染
  • 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積
  • 等離子聚合
  • 等離子清潔
  • 等離子刻蝕
  • 表面改性
  • 600mm線性等離子源
  • 900mm線性等離子源

3:

SLAN（SLot ANtenna）2.45 GHz微波等離子體源

 

  • 高濃度等離子體
  • 壓力范圍在10-5毫巴到大氣壓
  • 兼容化學(xué)反應(yīng)和非化學(xué)反應(yīng)氣體
  • 低污染
  • 電子回旋共振(ECR)或非電子回旋共振(non-ECR)操作
  • 等幅波和脈沖電源
  • 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積
  • 等離子聚合
  • 等離子清潔
  • 等離子刻蝕
  • 表面改性
  • 材料科學(xué)
  • 直徑4厘米
  • 直徑16厘米
  • 直徑67厘米

4:

電感耦合等離子體源ICP-P 200（13.56MHz）

 

  • 200毫米直徑的平面線圈
  • 擴(kuò)展功率范圍在3-1200瓦
  • 低能量擴(kuò)散
  • 高濃度高活性等離子體
  • 低污染
  • 等幅波和脈沖電源
  • 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積
  • 等離子聚合
  • 等離子清潔
  • 等離子刻蝕
  • 表面改性

 

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