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NIE-4000 IBE離子束刻蝕機(jī)

參  考  價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地國外

更新時(shí)間:2024-08-20 16:30:12瀏覽次數(shù):330次

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NIE-4000 IBE離子束刻蝕機(jī):如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。樣品表面通常采用厚膠作為掩模,刻蝕期間富有能量的離子流會(huì)使得基片和光刻膠過熱。NANO-MASTER技術(shù)可以把基片溫度控制在50℃以內(nèi),以便消除熱量及后續(xù)的光刻膠剝離。

NIE-4000 IBE離子束刻蝕機(jī)概述:

如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。樣品表面通常采用厚膠作為掩模,刻蝕期間富有能量的離子流會(huì)使得基片和光刻膠過熱。NANO-MASTER技術(shù)可以把基片溫度控制在50℃以內(nèi),以便消除熱量及后續(xù)的光刻膠剝離,同時(shí)支持

晶圓旋轉(zhuǎn)以達(dá)到想要的均勻度。

該系統(tǒng)為計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。


NIE-4000 IBE離子束刻蝕機(jī)特點(diǎn):

  • 14.5"不銹鋼立體離子束腔體

  • 16cm DC離子槍1000eV,500mA, 氣動(dòng)不銹鋼遮板

  • 離子束中和器

  • 氬氣MFC

  • 6"水冷樣品臺(tái)

  • 晶片旋轉(zhuǎn)速度3、10RPM,真空步進(jìn)電機(jī)

  • 步進(jìn)電機(jī)控制晶圓片傾斜

  • 手動(dòng)或自動(dòng)上下載晶圓片

  • 典型刻蝕速率:銅200 ?/min, 硅:500 ?/min

  • 6"范圍內(nèi),刻蝕均勻度+/-3%

  • 極限真空5x10-7Torr,20分鐘內(nèi)可達(dá)到10-6Torr級(jí)別(配套500 l/s渦輪分子泵)

  • 配套1000 l/s渦輪分子泵,極限真空可達(dá)8x10-8Torr

  • 磁控濺射Si3N4以保護(hù)被刻蝕金屬表面被氧化

  • 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制

  • 菜單驅(qū)動(dòng),4級(jí)密碼訪問保護(hù)

  • 完整的安全聯(lián)鎖



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