奧林巴斯BX51M金相顯微鏡

奧林巴斯BX51M金相顯微鏡產(chǎn)品說(shuō)明

暗視場(chǎng)觀察法
表面安裝板

暗視場(chǎng)可以讓用戶觀察來(lái)自樣本散射和衍射的光線。光源的光線會(huì)先穿過(guò)照明裝置中的環(huán)形光學(xué)照明器件，然后在樣本上聚焦。樣本上的光線只是由Z 軸上的瑕疵反射形成的。因此，用戶可以觀測(cè)到比光學(xué)顯微鏡分辨極限更小的、8 nm 級(jí)的微小劃痕和缺陷。暗視場(chǎng)適合檢測(cè)樣本上的微小劃痕及瑕疵和檢查表面光滑的樣本，包括晶圓。

偏振光觀察法
石棉

奧林巴斯BX51M金相顯微鏡觀察技術(shù)所使用的偏振光是由一組濾鏡（檢偏振器和起偏振器）產(chǎn)生的。樣本特征會(huì)直接影響系統(tǒng)反射光的強(qiáng)度。該觀察法適用于觀察金相組織（例，球墨鑄鐵中石墨的生長(zhǎng)圖案）、礦物、LCD 和半導(dǎo)體材料。

微分干涉（DIC）觀察法
磁頭

DIC 是一種顯微觀察技術(shù)，可以將明視場(chǎng)觀察法中無(wú)法檢測(cè)到的高度差異，用增強(qiáng)的對(duì)比度以浮雕或三維圖像的形式表現(xiàn)出來(lái)。該項(xiàng)基于偏振光的技術(shù)，擁有三個(gè)專門(mén)設(shè)計(jì)的棱鏡可供選擇以滿足用戶的需求。該觀察法適用于檢測(cè)高度差異極其微小的樣本，包括金相組織、礦物、磁頭研磨面和硬盤(pán)表面及晶圓研磨面。

熒光觀察法
半導(dǎo)體晶圓上的顆粒 

該項(xiàng)技術(shù)適用于觀察那些在受到專門(mén)設(shè)計(jì)的濾鏡（可以按照檢測(cè)需要制作）照明時(shí)會(huì)發(fā)出熒光（發(fā)出不同波長(zhǎng)的光線）的樣本。該方法通過(guò)熒光染色，應(yīng)用于觀測(cè)半導(dǎo)體晶圓表面的污物、抗蝕劑的殘?jiān)土押鄣臋z測(cè)?？梢蕴砑舆x購(gòu)的復(fù)消色差光源聚光透鏡系統(tǒng)，從而為可見(jiàn)光到近紅外線范圍內(nèi)的色差進(jìn)行補(bǔ)償。

IR（紅外線）觀察法
硅晶片層下的半導(dǎo)體電路

對(duì)使用了硅片、玻璃等易透射紅外線的電子設(shè)備的內(nèi)部進(jìn)行無(wú)損檢測(cè)時(shí)，IR 觀察十分有效。IR 物鏡也可用于近紅外線技術(shù)，如：拉曼光譜儀和YGA 激光修復(fù)應(yīng)用。

處理濾鏡
枝晶

OLYMPUS Stream 擁有各種濾鏡，可用于邊緣檢測(cè)、平滑處理和其它操作。使用處理濾鏡在拍攝的圖像上進(jìn)行增強(qiáng)和修改處理后，圖像的特征變?yōu)榭梢暬?。為達(dá)到效果，可使用預(yù)覽圖檢查或調(diào)整濾鏡的效果。

透射光觀察法
LCD彩色濾鏡

對(duì)于透明樣本，如，LCD、塑料和玻璃材料，可通過(guò)使用各種透射光聚光鏡實(shí)現(xiàn)真正的透射光觀察。使用透射光可以在明視場(chǎng)、暗視場(chǎng)、DIC 和偏振光中對(duì)樣本進(jìn)行成像和檢查--所有這些都在一個(gè)便捷的系統(tǒng)里。

自動(dòng)制作3D 圖像（EFI）
硬幣細(xì)節(jié)

使用BX61 或外部電動(dòng)調(diào)焦單元，便可以快速地記錄并組合超出焦深之外的樣本的圖像。只需一鍵操作，使用EFI 功能便可以將各個(gè)不同焦深的圖像合成一幅3D 圖像。zui終的3D數(shù)據(jù)可用于3D 觀察或用于測(cè)量高度和距離。

詳細(xì)參數(shù):