EVG光刻機(jī)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、微波器件及微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）、硅片凸點(diǎn)、化合物半導(dǎo)體等領(lǐng)域，涵蓋了微納電子領(lǐng)域微米或亞微米級(jí)線條器件的圖...

納米壓印技術(shù)主要應(yīng)用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學(xué)；芯片實(shí)驗(yàn)室；抗反射層；&#16...

納米壓印技術(shù)主要應(yīng)用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學(xué)；芯片實(shí)驗(yàn)室；抗反射層；納米壓印光柵；蓮花效應(yīng)；光子帶隙...

多用途的納米光刻系統(tǒng)eLINE Plus被廣泛用于大學(xué)和研究中心，該系統(tǒng)有很多多功能附件可供用戶選擇，滿足用戶對(duì)電子束光刻機(jī)多功能性的要求。除具有專業(yè)的電子束光...

PIONEERTM集成了電子束曝光及成像分析雙功能，是高校和科研人員的理想選擇。從理念上，PIONEERTwo是一個(gè)全新的*的設(shè)備，真正意義上實(shí)現(xiàn)了電子束曝光和...

通過(guò)參與好的端研究項(xiàng)目，通過(guò)和其他電子顯微鏡以及顯微分析的制造商的合作，TESCAN致力于持續(xù)不斷的改進(jìn)產(chǎn)品以使其保持在微納技術(shù)創(chuàng)新解決方案領(lǐng)域內(nèi)的競(jìng)爭(zhēng)力。本著...

FERA3 XM是一款由計(jì)算機(jī)全控制的Xe等離子聚焦離子束（i-FIB）場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡，可選配氣體注入系統(tǒng) （GIS），可在高真空和低真空模式下工作，其具...

FERA3 GM是一款由計(jì)算機(jī)*控制的Xe等離子聚焦離子束（i-FIB）場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡，可選配氣體注入系統(tǒng) （GIS），可在高真空和低真空模式下工作，其具...

shi jie*個(gè)*集成式Xe等離子源聚焦離子束掃描電子顯微鏡----FERA3，提供了超高離子束束流（zui高束流為2µA），其濺射速度比Ga離子源...

EVG500系列鍵合機(jī)主要應(yīng)用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學(xué)；芯片實(shí)驗(yàn)室；抗反射層；納米壓印光柵；蓮花效應(yīng)...

納米壓印技術(shù)主要應(yīng)用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學(xué)；芯片實(shí)驗(yàn)室；抗反射層；納米壓印光柵；蓮花效應(yīng)；光子帶隙...

EVG光刻機(jī)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、微波器件及微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）、硅片凸點(diǎn)、化合物半導(dǎo)體等領(lǐng)域，涵蓋了微納電子領(lǐng)域微米或亞微米級(jí)線條器件的圖...