Centrotherm 快速退火爐-c.RAPID 150 返回列表頁

Centrotherm 快速退火爐-c.RAPID 150

一、產品簡介

德國Centrotherm公司是國際主流的半導體設備供應商，尤其在高溫設備領域。Centrotherm c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火設備，主要用于滿足研發(fā)和小規(guī)模量產所需的多種工藝要求。

Centrotherm測溫系統(tǒng)適用于從室溫至高溫的廣泛區(qū)間。Centrotherm優(yōu)化的多區(qū)溫控系統(tǒng)結合可以獨立控制的加熱燈，提供了出色的控溫精度和控溫重復性。

此款設備配置手動裝載系統(tǒng)，適用于研發(fā)以及小型的量產。

成熟的真空操作和氣體管理系統(tǒng)為多種應用提供了可控的氣體環(huán)境。出色的性能和高度的靈活性，結合小的占地面積，低的客戶擁有成本，使c.RAPID 150成為一款最佳的手動RTP設備。

二、典型應用

退火：一般退火、接觸層（Contact）退火、源/漏退火、勢壘金屬退火

硅化

氧化

摻雜活化

三、產品特性

可在常壓或者真空（控壓）下工作

高度靈活性：適用于最大6寸的硅片或者可放置基片的6寸托盤

升溫速率約150 K/s