化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備了一場(chǎng)新的拋光技術(shù)革命，單純的化學(xué)拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機(jī)械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深；而
化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備在進(jìn)行研磨拋光加工操作時(shí)，只需將被磨、拋材料放于平整的研磨盤上，研磨盤逆時(shí)鐘轉(zhuǎn)動(dòng)，修正輪帶動(dòng)工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方式對(duì)工件施壓，工件與研磨盤作相對(duì)運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦，來達(dá)到研磨拋光目的。
測(cè)試和開發(fā)各種不同的微粒，材料，濃度，氧化劑，抑制劑等的拋光液，溝槽形狀，尺寸，彈性，壽命等，測(cè)試和發(fā)展拋光墊調(diào)節(jié)裝置來優(yōu)化拋光墊的損耗率，修整，效率等，通過在晶圓墊和調(diào)節(jié)墊界面處的擁有的傳感器，測(cè)量負(fù)載和摩擦力，在晶圓墊和調(diào)節(jié)墊界面處的擁有的傳感器和放大器，測(cè)量接觸噪聲，使用聲波表征的缺陷、劃痕，并在加工過程中分層，化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備進(jìn)行過程中，拋光液對(duì)工件表面的化學(xué)腐蝕是拋光的*步,其腐蝕作用是拋光液和工件表面接觸時(shí),而新暴露出的工件表面,繼續(xù)被拋光化學(xué)腐蝕，這種化學(xué)作用與機(jī)械作用的不斷重復(fù),使工件表面逐漸光滑,化學(xué)機(jī)械拋光過程綜合了化學(xué)和機(jī)械拋光的優(yōu)勢(shì)，單純的化學(xué)拋光，拋光速率較快，單純機(jī)械拋光一致性好,表面平整度高。
