CMP銅Copper工藝的開發(fā)

擁有超過50年經(jīng)驗的實驗室團隊，與客戶合作不斷開發(fā)新的工藝，以確保可以使用最新和先進的工藝技術(shù)來幫助客戶。無論是持續(xù)進行研發(fā)以確保我們掌握新技術(shù)和工藝知識，還是繼續(xù)開發(fā)我們現(xiàn)有的產(chǎn)品，我們始終都在不斷...

Semicon上海半導(dǎo)體展邀請函

我司將參加2019Semicon上海半導(dǎo)體展，我們誠邀您作為特邀嘉賓蒞臨參觀、洽談。展品展示：展會現(xiàn)場

新品推介——LP70多工位精密研磨和拋光系統(tǒng)

Logitech將推出全新的LP70多工位精密研磨和拋光系統(tǒng)。該系統(tǒng)自動化程度高，具有創(chuàng)新的特性和功能，是需要高規(guī)格表面光潔度和平整度應(yīng)用的多晶圓加工方面的理想解決方案。LP70精密研磨和拋光系統(tǒng)將成...

EMA新品問世-離子色譜樣品瓶

EMA元素分析耗材產(chǎn)品介紹

北京華沛智同科技發(fā)展有限公司成立2004年，致力于將國外高品質(zhì)的元素分析耗材引進到國內(nèi)，并推薦給國內(nèi)同位素質(zhì)譜儀，C、N、O、S、H元素分析儀器使用單位，讓中國用戶使用到價廉物美，具有的元素分析耗材，...

中山大學(xué)CMP Tribo和PM6設(shè)備安裝調(diào)試順利完成

中山大學(xué)電子與信息工程學(xué)院光電材料與技術(shù)國家重點實驗室，為滿足專業(yè)人才培養(yǎng)需要，2016年底，利用國家專項教學(xué)資金購置光電國家重點實驗室化學(xué)機械平坦化機和研磨拋光機各一套。設(shè)備均為目前精密研磨拋光設(shè)備...

超過40年歷史的LP30 Logitech系統(tǒng)仍在運轉(zhuǎn)

科羅拉多礦業(yè)學(xué)院一直從事地質(zhì)方面研究，他們的地質(zhì)薄片制備一直使用Logitech的LP30機器，此臺LP30機器已幫助他們制備地質(zhì)薄片超過40年。LP30是精密研磨拋光系統(tǒng)LP50的前身，在LP50面...

上海硅酸鹽所研制的兩項關(guān)鍵材料成功用于 “墨子號”量子衛(wèi)星

8月16日1時40分，我國在酒泉衛(wèi)星發(fā)射中心用長征二號丁運載火箭成功將世界首顆量子科學(xué)實驗衛(wèi)星“墨子號”（簡稱“量子衛(wèi)星”）發(fā)射升空。此次發(fā)射任務(wù)的圓滿成功，標(biāo)志著我國空間科學(xué)研究又邁出重要一步。中國...

新一代智能型精密研磨拋光系統(tǒng)PM6上市

英國logitech公司成立于1965年，具有*的材料表面精密加工處理領(lǐng)域的*水平。logitech公司一直致力于在半導(dǎo)體材料加工、光電器件制備、光學(xué)材料處理、地址薄片制備、材料的測試與測量及工藝探究...

化學(xué)機械研磨拋光設(shè)備的優(yōu)勢有哪些？

化學(xué)機械研磨拋光設(shè)備了一場新的拋光技術(shù)革命，單純的化學(xué)拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度...

薄片制備系統(tǒng)的用途有哪些

由透射電鏡的工作原理可知，供透射電鏡分析的樣品必須對電子束是透明的，通常樣品觀察區(qū)域的厚度以控制在約100-200nm為宜。薄片制備系統(tǒng)所制得的樣品還必須具有代表性以真實反映所分析材料的某些特征，因此...