ESS RearTorr-S氣體分析質(zhì)譜儀是*的真正的對整個(gè)工藝過程提供監(jiān)控。特殊的進(jìn)口閥由直接反饋控制方式調(diào)節(jié)；與過程壓力無關(guān)，進(jìn)口閥自動(dòng)調(diào)節(jié)，使質(zhì)譜系統(tǒng)的壓力值在所有時(shí)間內(nèi)保持恒定。由占地小，ESS RearTorr-S氣體分析質(zhì)譜儀在潔凈實(shí)驗(yàn)室是非常有效的解決方案。儀器的核心是一個(gè)非常靈敏的四極桿質(zhì)譜儀，它裝備了一個(gè)增強(qiáng)型的密封的離子源，檢出限達(dá)到ppb級，具有*的穩(wěn)定性和快速反應(yīng)時(shí)間。系統(tǒng)的設(shè)計(jì)進(jìn)一步加強(qiáng)了ESS的可靠性。

緊湊的設(shè)計(jì)意味著該系統(tǒng)可以直接安裝在加工工具上，所以可以滿足真實(shí)的監(jiān)控條件，還有一個(gè)功能強(qiáng)大的、易于使用的軟件包來操作和控制質(zhì)譜系統(tǒng)。該軟件包已經(jīng)被專門設(shè)計(jì)用于處理工具應(yīng)用程序，并允許用戶單獨(dú)選擇操作模式，用于特定的流程應(yīng)用程序。reactorr-s將節(jié)省時(shí)間和金錢，大大提高你的應(yīng)用的完整過程。

半導(dǎo)體工藝過程中監(jiān)測

• Vacuum Monitoring  真空監(jiān)測

• CVD   CVD監(jiān)測

• Baseline RGA 基線殘氣檢測

• Outgassing of Wafer   除晶片

• Ion Implant   離子導(dǎo)入

• Etch     刻蝕

• Transfer Chamber monitoring

• Pump-down profile monitoring

• Leak Testing 滲漏測試

• Process Gas Purity 工藝氣提純度檢測