Logitech PM5精密研磨拋光系統(tǒng)是帶有一個(gè)工作站的臺(tái)式機(jī)，適用于科學(xué)研究水平的研磨和拋光，能夠完成4英寸及以下尺寸樣品的小批量處理。

具有加工樣品*性高、規(guī)格水平高、表面光潔等特點(diǎn)。

1、完善的控制系統(tǒng)

在半導(dǎo)體、光電、光學(xué)以及地質(zhì)等應(yīng)用領(lǐng)域，Logitech PM5精密研磨拋光系統(tǒng)是值得信賴的選擇，典型的應(yīng)用包括：晶片背減、光纖及波導(dǎo)器件制備、激光棒拋光、MEMS等。無(wú)論是對(duì)何種高質(zhì)量表面平整度控制的需求，PM5均能給予用戶滿意的處理效果。

研磨/拋光的所有功能，包括盤轉(zhuǎn)速、擺臂設(shè)定、滴料速度，均顯示在操作控制顯示屏，通過(guò)操縱桿對(duì)操作控制顯示屏的參數(shù)進(jìn)行設(shè)定。

2、自動(dòng)化功能增強(qiáng)

機(jī)器運(yùn)行內(nèi)置計(jì)時(shí)器，在無(wú)人看管時(shí)可以設(shè)定計(jì)時(shí)器，計(jì)時(shí)器時(shí)間設(shè)定范圍0-10小時(shí)，在處理材料完成時(shí)機(jī)器自動(dòng)停止（拋光狀態(tài)下報(bào)警不停機(jī)），控制系統(tǒng)向操作員發(fā)出蜂鳴提醒。

為了進(jìn)一步提高易用性，部分配備真空管道，以聯(lián)通真空裝置，VS2真空系統(tǒng)單元獨(dú)立放置，在提供真空系統(tǒng)同時(shí)具有過(guò)濾防污染的功能。可以看到，Logitech的全套備件配置使用為用戶帶來(lái)了足夠大的加工靈活性。

夾具具有在線監(jiān)測(cè)功能，可實(shí)時(shí)顯示樣品處理的去除量，監(jiān)測(cè)精度1um；為適應(yīng)各種大小尺寸的樣品處理，夾具對(duì)晶片作用壓力可以連續(xù)調(diào)節(jié)，通過(guò)增加夾具壓力塊，壓力調(diào)節(jié)范圍zui大可達(dá)0.1 - 7Kg；夾具zui大處理樣品尺寸4英寸。

3、直觀的操作控制系統(tǒng)

快速、高效的研磨/拋光盤，便于拆卸，方便用戶在不同的研磨過(guò)程之間的快速轉(zhuǎn)換，以及研磨和拋光工藝的變換。這種靈活性使PM5成為實(shí)驗(yàn)室空間有限的情況下的首要選擇。

具有耐化學(xué)腐蝕的配置，適合在腐蝕性物質(zhì)環(huán)境中使用，如砷化鎵拋光中常常使用的Chemlox拋光液。耐腐蝕的設(shè)計(jì)保障了系統(tǒng)在酸堿工作環(huán)境中運(yùn)行。

4、精準(zhǔn)的滴料系統(tǒng)

磨料自動(dòng)填料系統(tǒng)通過(guò)一個(gè)可調(diào)導(dǎo)料槽，確保精準(zhǔn)的控制料液流從料桶滴入研磨盤或拋光盤。滴料的控制設(shè)計(jì)，具有很高的經(jīng)濟(jì)性，特別適合多樣化研究使用。

此外，可拆卸的料液托盤導(dǎo)出廢料，使其流入廢料桶，從而保障設(shè)備安全穩(wěn)定的長(zhǎng)時(shí)間持續(xù)運(yùn)行，同時(shí)減輕設(shè)備的清理工作。

5、完整的參數(shù)控制，確保結(jié)果*

研磨/拋光的工藝過(guò)程中，盤的表面情況會(huì)在一定程度上反饋在樣品表面，通過(guò)控制研磨盤的盤面型從而提高樣品平整度；通過(guò)保持拋光盤的表面狀態(tài)從而提高樣品表面質(zhì)量。

為獲得*結(jié)果，設(shè)備往復(fù)運(yùn)動(dòng)的速度和擺幅可以精確的控制樣品處理效果，從而提高了結(jié)果的高重復(fù)性和高*性。

技術(shù)規(guī)格：