目錄:優(yōu)尼康科技有限公司>>薄膜厚度測量>>Filmetrics膜厚測量儀>> F3-sXFilmetrics 光學(xué)厚膜測厚儀
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 生物產(chǎn)業(yè),電子/電池 | 波長范圍 | 1280-1340nm |
| 光源 | 200KMTBFSLED | 厚度測量范圍n=1.5 | 15um-2mm |
| 厚度測量范圍n=3.5 | 7um-1mm | 光斑大小 | 標(biāo)準(zhǔn)工作距離53mm |
| 測量精度 | 5nm2 |

Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測厚儀利用光譜反射原理,可以測量厚度達(dá)到3毫米的眾多半導(dǎo)體及介電層薄膜。相對于較薄的膜層,這種厚膜的表面較粗糙且不均勻,F(xiàn)3-sX系列膜厚儀配置10微米的測量光斑,從而可以容易地測量其他膜厚測量儀器不能測量的膜層,并且僅在幾分之一秒內(nèi)完成。F3-sX膜厚儀在Si晶圓厚度測量、護(hù)涂層、IC芯片失效分析、厚光刻膠等方面優(yōu)異表現(xiàn)。
非接觸測量:避免損傷薄膜,適用于脆弱或敏感材料;
多場景適用性:基本上光滑的、半透明的或低吸收系數(shù)的薄膜都可以測量。
測量速度快:配置完成后,數(shù)秒內(nèi)即可完成測量。
采用近紅外光(NIR)來測量膜層厚度,因此可以測試一些肉眼看是不透明的膜層
配件包括自動繪圖平臺、測量點可視化攝像機,和可見光擴展波段選項
當(dāng)入射光穿透不同物質(zhì)的界面時將會有部分的光被反射,由于光的波動性導(dǎo)致從多個界面的反射光彼此干涉,從而使反射光的多波長光譜產(chǎn)生震蕩的現(xiàn)象。從光譜的震蕩頻率,可以判斷不同界面的距離進(jìn)而得到材料的厚度(越多的震蕩代表越大的厚度),同時也能得到其他的材料特性如折射率與粗糙度。

薄膜特性:厚度、反射率、透射率、光學(xué)常數(shù)、均勻性、刻蝕量等
薄膜種類:透明及半透明薄膜,常見如氧化物、聚合物甚至空氣
薄膜狀態(tài):固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)薄膜都可以測量
薄膜結(jié)構(gòu):單層膜、多層膜;平面、曲面
顯示技術(shù) | 消費電子 | 派瑞林 | |
光刻膠 | OLED | 防水涂層 | 電子產(chǎn)品/電路板 |
介電層 | ITO和TCOs | 射頻識別 | 磁性材料 |
砷化鎵 | 空氣盒厚 | 太陽能電池 | 醫(yī)學(xué)器械 |
微機電系統(tǒng) | PVD和CVD | 鋁制外殼陽極膜 | 硅橡膠 |
波長范圍: | 1280-1340nm | 光源: | 200KMTBFSLED |
厚度測量范圍n=1.5: | 15um-2mm | 厚度測量范圍n=3.5: | 7um-1mm |
光斑大?。?/span> | 標(biāo)準(zhǔn)工作距離53mm | 測量精度: | 5nm2 |

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