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二手API液質(zhì)聯(lián)用儀LC-MSMS

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更新時間:2022-03-14 17:25:43瀏覽次數(shù):1718

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產(chǎn)品簡介

保修期限 6個月 產(chǎn)地類別 進(jìn)口
產(chǎn)品成色 9成新 使用年限 1-2年
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,食品,化工,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè) 儀器種類 三重四級桿
二手API液質(zhì)聯(lián)用儀LC-MSMS三重四極桿
經(jīng)得起考驗(yàn)的性能,API 4000系統(tǒng)能應(yīng)對嚴(yán)格的藥物開發(fā)挑戰(zhàn)。質(zhì)譜系統(tǒng)靈敏度能對痕量物質(zhì)分析的檢測限,如在食品、環(huán)境分析中對農(nóng)藥和獸藥殘留的檢測,以及法醫(yī)毒物學(xué),臨床研究的痕量分析,SCIEX液質(zhì)聯(lián)用儀, 高穩(wěn)定可靠性、高靈敏度,4000型特別設(shè)計了TurboV離子源,特別增加了大流速測定的靈敏度.

詳細(xì)介紹

二手API液質(zhì)聯(lián)用儀LC-MSMS:

描述:

AB液質(zhì)聯(lián)用API4000三重四極桿經(jīng)得起考驗(yàn)的性能,API 4000系統(tǒng)能應(yīng)對嚴(yán)格的藥物開發(fā)挑戰(zhàn)。質(zhì)譜系統(tǒng)的靈敏度能對超痕量物質(zhì)分析的檢測限,如在食品、環(huán)境分析中對農(nóng)藥和獸藥殘留的檢測,以及法醫(yī)毒物學(xué),臨床研究的痕量分析。

AB液質(zhì)聯(lián)用API4000三重四極桿定量和鑒定。API 4000 LC/MS/MS系統(tǒng)對復(fù)雜基質(zhì)中低含量的化合物分析,提供定量和定性結(jié)果。API 4000系統(tǒng)在藥物開發(fā)的每個階段——從藥物發(fā)現(xiàn)到臨床試驗(yàn),同時也加速新產(chǎn)品向市場的轉(zhuǎn)化。

AB液質(zhì)聯(lián)用API4000三重四極桿離子通路。實(shí)現(xiàn)高通量分析——具有離子源,接口和具有技術(shù)的LINAC碰撞室,良好的離子通道可加速離子傳輸效率。

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二手API液質(zhì)聯(lián)用儀LC-MSMS譜部分:
包括ESI和APCI離子源(非復(fù)合源)
電噴霧離子源(ESI):流量1-2000μl/min(無需分流)
大氣壓化學(xué)電離源(APCI):流量50-3000μl/min(無需分流)


液質(zhì)聯(lián)用儀常見故障:

LC/MS故障排除
癥狀類型   解決方案
無峰     霧化器噴霧
   保證毛細(xì)管電壓設(shè)置正確
   保證LC/MSD 調(diào)諧正確
   保證LC/MSD 檢測器壓力在正常范圍
   檢查干燥氣流量和溫度
   確保碰撞誘導(dǎo)解離電壓設(shè)置正確
質(zhì)量準(zhǔn)確度差   重新校正質(zhì)量軸
   確定調(diào)諧用離子,估計樣品離子的質(zhì)量范圍并顯示強(qiáng)穩(wěn)定的信號
信號低   檢查溶液化學(xué)性質(zhì),確定樣品溶劑是合適的
   保證用新樣品,并且正確存儲樣品
   保證LC/MSD 調(diào)諧正確
   檢查霧化器條件
   清潔毛細(xì)管入口
   檢查毛細(xì)管有無損壞和污染
信號不穩(wěn)定   保證干燥用氣流和溫度對溶劑流動是正確的
   保證溶劑*脫氣
   保證LC 反壓穩(wěn)定;指示溶劑流動穩(wěn)定
高質(zhì)譜噪音   采用合適的質(zhì)量過濾器值
   檢查噴霧形狀;霧化器可能損壞或放置不當(dāng)
   保證干燥用氣流和溫度對溶劑流動是正確的
   保證溶劑*脫氣
   保證LC 反壓穩(wěn)定;指示溶劑流動穩(wěn)定
   如果用水作流動相的組分,確保是去離子水(>18MW)
霧化器出口是小液滴而不噴霧   確保霧化氣壓設(shè)定足夠高以利液相色譜流動相氣化
   檢查霧化器中針頭的位置
   停止溶劑流動,卸下霧化裝置
    檢查霧化器末端是否損壞
無液流    確保LC 在工作,在正確的瓶中有足夠溶劑
    檢查LC 故障提示
    檢查阻塞情況
   修理或更換任何阻塞部件
   檢查是否存在滲漏
   保證MS 氣流選擇器設(shè)定在與液相色譜儀聯(lián)通的位置

不需要的裂解現(xiàn)象  







 (APCI 相對于電噴霧)
   APCI 溫度過高

   裂解電壓設(shè)置過高






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