智能集菌儀適用范圍
適用范圍:
1. 制藥行業(yè)：純化水、注射用水、無菌制劑（大輸液、小針劑、粉劑、生物制品、血液制品、眼用制劑、保養(yǎng)液等）的無菌檢查和微生物限度檢查；
2. 醫(yī)療器械行業(yè)：純化水、注射用水、注射器、輸液器、輸血器、靜脈導管等的無菌檢查和微生物限度檢查；
3. 食品、飲料行業(yè)；
4. 環(huán)保行業(yè)等。 
 智能集菌儀適用范圍
產(chǎn)品特征: 
 
1. 新型泵頭：偏心張緊固定法，操作方便快捷。
2. 智能集菌儀的傳動系統(tǒng)采用低轉(zhuǎn)速大力矩電機，直接驅(qū)動，從而降低了輸入功率并有效降低了機身表面的溫度且噪音低于50db。
3. 蠕動泵具有安全保護裝置，打開泵頭，集菌儀自動停止運轉(zhuǎn)，有效避免操作失誤對人的傷害。
4. 整機采用L304不銹鋼一體化超小型設(shè)計，減少對操作臺的占用空間。
5. 轉(zhuǎn)速控制采用面貼式無極調(diào)速法控制，操作簡單直接，有暫停記憶功能。
6. 腳踏開關(guān)采用進口航空防水端頭連接，超低電壓控制電器，不會存在漏電傷人的危險，有自動及半自動可選。
7. 機殼表面經(jīng)鏡面處理，便于消毒和清潔，且美觀大方。
8. 排液槽有分體式和連機旋轉(zhuǎn)式可選。
9. 機身所有安裝口端經(jīng)過防水密封處理，有效的防止液體滲入機內(nèi)。
10. 可根據(jù)客戶需求，增加檢品回收功能，可自由拆裝回收支架，滿足昂貴檢品的回收和產(chǎn)品除菌的特殊需求。 
 
技術(shù)參數(shù): 
1. 型  號 ：ZW-808A 
2. 電  源 ： 220V 50Hz
3. 功  率 ： 60W
4. 轉(zhuǎn)  速 ： 0-300rpm
5. 外形尺寸：260*260*180mm
6. 重  量：10kg
7. 懸架總高度：37cm
8. 機殼材料：L304不銹鋼材料
很多涉及原子層沉積技術(shù)(ALD)的人都知道，智能集菌儀選擇性原子層沉積是當今熱議的話題。各類論文、研討會和博文層出不窮，詳盡地解釋了各種可以達到選擇性生長目的的新方法。智能集菌儀從某種意義上說，選擇性ALD運用了長期困擾ALD使用者的效應，即由于ALD的化學反應特性，薄膜生長的成核現(xiàn)象取決于基底表面。通常來說，在ALD領(lǐng)域人們已經(jīng)在研究如何盡可能減小這種影響。例如，等離子體ALD一般會有可忽略不計的延遲，但對于選擇性ALD來說，成核延遲現(xiàn)象卻被放大了。有意思的是，雖然等離子體ALD一般沒有成核延遲現(xiàn)象，但它仍然可被用于選擇性ALD。我在埃因霍溫的大學同事已登載了相關(guān)發(fā)現(xiàn)它的要點是在等離子體曝光之后再次重復應用抑制劑，這個過程可用視頻中所示的三步ABC ALD方法操作。以下視頻中解釋了選擇性等離子體ALD技術(shù)的全新概那么問題來了，人們會選擇哪種ALD設(shè)備來研究選擇性ALD呢。我相信我們系統(tǒng)中的一些功能會很有用，例如：◆ 可應用多種化學前驅(qū)物。氣箱可容納多路氣體并由MFC進行流量控制◆ 可應用抑制劑分子(如在前驅(qū)物注入過程中通入NH3或CO)◆ 將氫基作為抑制劑：在前驅(qū)物注入前使用氫等離子體(或其他等離子體)來抑制特定表面的生長

◆ 氟化物等離子體：將CFX或F作為抑制劑，在前驅(qū)物注入前使用此等離子體，或進行選擇性ALD生長時，即每隔幾個生長周期就在同一個腔體內(nèi)進行一次刻蝕的步驟(注意O2等離子體可刻蝕Ru，H2等離子體可刻蝕ZnO)?！?用于抑制生長的自組裝單分子膜(SAMS)注入◆ 多腔體集成系統(tǒng)，比如與感應耦合等離子體-化學氣相沉積(ICP-CVD)腔室(生長非晶硅)、濺射(sputter)腔室或原子層刻蝕(ALE)腔室結(jié)合使用◆ 用于原表面改性或刻蝕的基底偏壓牛津儀器的設(shè)備可實現(xiàn)優(yōu)異的控制效果，包括：◆ 通過MFC，快速ALD閥門和快速自動壓力控制，可獲得可調(diào)的前驅(qū)物/氣體注入，以實現(xiàn)一面成核另一面不成核的現(xiàn)象?！?使用預真空室和渦輪增壓分子泵保持系統(tǒng)的的高真空度，以使抑制現(xiàn)象長時間不受影響?！?使用等離子體可清潔腔體和恢復腔體氛圍?！?帶實時診斷功能的生長監(jiān)控設(shè)備：橢圓偏正光譜測、質(zhì)譜分析法及發(fā)射光譜法基于選擇性ALD提出的與刻蝕相結(jié)合的方法再次讓我想到原子尺度工藝處理的問題，我在之前發(fā)表的一篇博文中對此進行了討論?？梢韵胂?，通過結(jié)合選擇性ALD及其他工藝，可以生長出新的超材料(特異材料)和*結(jié)構(gòu)。例如，通過在選擇性曝光的銅中生長石墨烯，或通過周期性刻蝕同一平面的沉積(例如局部選擇性ALD)，可有效地僅在結(jié)構(gòu)側(cè)邊生長材料。因此不論是在普通等離子刻蝕機或帶基底偏壓特性的FlexAL，結(jié)合帶導向的離子曝光法也許會是個優(yōu)勢?？偟脕碚f，我很期待能有令人驚喜的新發(fā)現(xiàn)，新結(jié)構(gòu)和新材料能在可控的方式下誕生。光在一般介質(zhì)中具有雙向傳輸?shù)幕ヒ仔?，而打破這種互易性，即實現(xiàn)對光傳輸方向的非互易性，在經(jīng)典和量子信息處理中具有重要意義。光環(huán)形器、隔離器、定向放大器等是典型的非互易器件。其中光環(huán)形器允許光以“環(huán)形”的方式傳輸，可用于光源保護、精密測量，這種功能還可實現(xiàn)經(jīng)典或量子計算或通訊中信號的雙向處理，有利于提高信道容量與降低功耗。定向放大器也已經(jīng)被證明在基于超導回路的量子計算中具有重要意義。常見的光學非互易器件主要利用磁光晶體的法拉第效應，但在器件集成化方面卻面臨著挑戰(zhàn)，難點包括磁光材料與傳統(tǒng)半導體材料不匹配、需要外加強磁場、在光頻范圍內(nèi)磁光材料具有很高的傳輸損耗等。因此全光控制的片上光環(huán)形器、隔離器以及定向放大器一直是研究的熱點。該科研團隊在前期實驗驗證了回音壁模式微腔中腔光力的非互易特性的基礎(chǔ)上，利用單個光力微腔與雙波導耦合的體系，實現(xiàn)了多功能的光子器件，包括窄帶濾波器，具有非互易功能的四端口光環(huán)形器與定向放大器，并且這些功能模式可以通過改變控制光來實現(xiàn)任意切換。該器件結(jié)構(gòu)簡單，原理具有普適性，甚至可實現(xiàn)單光子水平的光環(huán)形器，同時可推廣到任一具有行波模式的光力學體系，包括微波超導器件和集成聲學器件。