單靶等離子濺射鍍膜儀(基礎(chǔ)型) 參考價(jià):38000
本型號(hào)單靶等離子濺射鍍膜儀(基礎(chǔ)型),采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。該小型...雙靶等離子濺射鍍膜儀(標(biāo)準(zhǔn)型) 參考價(jià):68000
雙靶等離子濺射鍍膜儀(標(biāo)準(zhǔn)型),采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷三靶等離子濺射鍍膜儀(標(biāo)準(zhǔn)型) 參考價(jià):86000
三靶等離子濺射鍍膜儀(標(biāo)準(zhǔn)型),采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷三靶等離子濺射鍍膜儀(基礎(chǔ)型) 參考價(jià):68000
三靶等離子濺射鍍膜儀(基礎(chǔ)型),采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。單靶等離子濺射鍍膜儀(標(biāo)準(zhǔn)型) 參考價(jià):38000
單靶等離子濺射鍍膜儀(標(biāo)準(zhǔn)型)采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺...雙靶等離子濺射鍍膜儀(基礎(chǔ)型) 參考價(jià):50000
雙靶等離子濺射鍍膜儀(基礎(chǔ)型)采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺...雙靶等離子濺射鍍膜儀(增強(qiáng)型) 參考價(jià):40000
雙靶等離子濺射鍍膜儀(增強(qiáng)型)采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺...三靶等離子濺射鍍膜儀(增強(qiáng)型) 參考價(jià):50000
三靶等離子濺射鍍膜儀(增強(qiáng)型)采用級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺射...換位自轉(zhuǎn)等離子鍍膜儀 參考價(jià):40000
換位自轉(zhuǎn)等離子鍍膜儀采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn),本設(shè)備配備換位自轉(zhuǎn)式樣品臺(tái),用戶可以在觸控屏上實(shí)現(xiàn)一鍵換位,樣品臺(tái)可在兩個(gè)靶位自由切...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)