目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSZ180-I-DC-SS?光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,制藥/生物制藥 |
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀是一種常見的物相沉積（PVD）技術(shù)，用于制備各種薄膜材料。其工作原理是使用一種叫做磁控濺射的技術(shù)，將高純度的金屬或合金靶材濺射生成離子和中性原子，并將它們沉積在基底上形成薄膜。在這種濺射系統(tǒng)中，使用單個(gè)靶材，通常是金屬或合金的圓盤形，通過在靶材上施加高電壓和磁場，將靶材表面的粒子加速并噴向基底。由于基底通常是經(jīng)過高溫處理過的，因此濺射的金屬粒子會(huì)快速擴(kuò)散并形成均勻的薄膜。
為了增加濺射速率和膜質(zhì)量，光纖繞絲技術(shù)被引入其中。在光纖繞絲技術(shù)中，將纖維繞在靶材和基底之間，形成一條薄薄的縫隙。通過調(diào)整靶材和基底之間的距離并控制濺射能量，可以更加控制沉積在基底上的薄膜的厚度和組成。
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設(shè)備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質(zhì)的膜層。
這種濺射系統(tǒng)非常適合制備高質(zhì)量、高純度、均勻性好的金屬和合金薄膜，廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)、電池、太陽能電池等領(lǐng)域。
1. 光學(xué)薄膜制備：用于制作高反射、抗反射等光學(xué)薄膜。
2. 電子器件制備：用于制備半導(dǎo)體器件、導(dǎo)電膜等。
3. 光學(xué)器件制備：用于制備太陽能電池、液晶顯示器、LED等器件。
4. 防護(hù)涂層制備：用于制備具有防水、防油、防紫外線、防磨損等性能的涂層。
總的來說，單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀廣泛應(yīng)用于科研和工業(yè)領(lǐng)域中的薄膜制備。
單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品型號 | CY-MSZ180-I-DC-SS | |
供電電壓 | AC220V，50Hz | |
整機(jī)功率 | 2kw | |
繞絲機(jī)構(gòu) | 尺寸 | Φ15mmx245mm |
繞絲速度 | 1-300r/min | |
磁控濺射頭 | 數(shù)量 | 2英寸x1 |
冷卻方式 | 水冷 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | Φ213mmX307mm |
觀察窗口 | φ80mm | |
開啟方式 | 上頂開式、左側(cè)開式 | |
腔體材料 | 不銹鋼304 | |
電源配置 | 直流電源數(shù)量 | 1臺 |
輸出功率 | ≤300W | |
匹配方式 | 自動(dòng)匹配 | |
水冷系統(tǒng) | 水箱容積 | 9L |
流量 | 10L/min | |
供氣系統(tǒng) | 類型 | 手動(dòng)微量調(diào)節(jié)閥 |
真空系統(tǒng) | 前級泵 | 雙極旋片泵 |
抽速 | 1.1L/s | |
次級泵 | 渦輪分子泵 | |
抽速 | 60L/s | |
抽氣口 | ISO63 | |
出氣口 | KF16 | |
真空計(jì) | 復(fù)合真空計(jì) | |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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