光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：250000
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設(shè)備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質(zhì)的膜層。
單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀，專用于光纖制備薄膜,采用不銹鋼高真空腔體，配有帶擋板的觀察窗，可以觀察鍍膜過(guò)程，擋板則能有效防止觀察窗被膜層遮蔽，便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄...
非導(dǎo)電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：280000
非導(dǎo)電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀是一款緊湊型2英寸單頭射頻等離子磁控濺射系統(tǒng)，涂有非金屬，主要是氧化物薄膜。磁控濺射鍍膜儀將所有元件集成到一層立式機(jī)柜中，包括射頻...
小型粉末PVD包覆磁控鍍膜儀系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
小型粉末PVD包覆磁控鍍膜儀系統(tǒng)是一款小型粉末包覆系統(tǒng)，主要有2英寸磁控濺射頭和振動(dòng)樣品臺(tái)組成。小型粉末PVD包覆系統(tǒng)粉末在振動(dòng)樣品臺(tái)上振動(dòng)翻滾，通過(guò)濺射在粉末...
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻) 參考價(jià)：290000
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀可選配直流電源，和射頻電源，功率從500W-1000W不等。
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 參考價(jià)：210000
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀可選配直流電源功率從500W-1000W不等。
三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻) 參考價(jià)：198000
三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀可選配源功率從500W-1000W不等的射頻電源。
雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙膜厚儀） 參考價(jià)：235000
雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙膜厚儀）是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍...
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻) 參考價(jià)：198000
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)典型的高速低溫濺射實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)可選配直流電源和射頻電源，功率從500W-1000W不等。
雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻) 參考價(jià)：260000
雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)高速低溫濺射實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，雙靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W不等的射頻電源。
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 參考價(jià)：面議
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)高速低溫濺射。雙靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W不等的直流電源。
單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻） 參考價(jià)：168000
單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻）我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀可選配500W-1000W不等的射頻電源。
單靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 參考價(jià)：212100
單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W的直流電源。
小型單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：100000
小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選...
真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：189000
真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（三個(gè)靶）、單基片加熱臺(tái)、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。磁...
可程控磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：265000
可程控磁控濺射鍍膜儀為單腔室結(jié)構(gòu)，主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉(zhuǎn)基片臺(tái)、光加熱系統(tǒng)、濺射電源、工作氣路、真空獲得系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量、水冷卻及...
真空磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：250000
真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。真空磁控濺射鍍膜儀廣泛應(yīng)用于科研...
單室磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：210000
單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。磁控濺射鍍膜儀可廣泛應(yīng)用于大專院校、...
磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：390000
磁控濺射鍍膜儀主要由進(jìn)樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機(jī)構(gòu)、抽氣及真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。此外,CY-in-line磁控濺射升級(jí)后，...
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：158000
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀 參考價(jià)：198000
?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，尤其是實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備，?雙靶直流磁控鍍膜儀采用旋轉(zhuǎn)加熱樣...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：259800
雙靶磁控濺射鍍膜儀采用靶下置樣品臺(tái)在上方的布局。雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)兩個(gè)靶位，直流射頻雙電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜...
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：389500
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等...
分體式單靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：269500
本設(shè)備為分體式單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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