目錄:上海昊量光電設(shè)備有限公司>>光學(xué)/激光加工系統(tǒng)>>無掩膜光刻系統(tǒng)>> DMD無掩膜光刻機(jī)
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子 |
---|
DMD無掩膜光刻機(jī)無需制造掩膜,采用DMD數(shù)字掩膜,可在抗蝕劑內(nèi)曝光所希望的任意圖案。無掩膜光刻機(jī)可以讀取任何CAD數(shù)據(jù),除此之外DMD式無掩膜光刻機(jī)還可以讀取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式無掩膜光刻機(jī)使用365nmLED光源,降低價(jià)格的同時(shí)實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光。采用10倍物鏡,一次曝光面積可達(dá)1mm´0.6mm,曝光時(shí)間僅需1s。結(jié)合電動移動平臺,可實(shí)現(xiàn)曝光拼接,分辨率可達(dá)到3mm??赏ㄟ^公司編寫的軟件完成詳細(xì)設(shè)定,使操作簡潔方便。
DMD無掩膜光刻機(jī)與傳統(tǒng)的光刻機(jī)不同,AU-PALET光刻機(jī)采用DMD數(shù)字掩膜光刻技術(shù),無需制造掩膜。大大降低了時(shí)間和成本。無掩膜光刻機(jī)可以讀取任何創(chuàng)建的CAD文件,直接進(jìn)行光刻。除了CAD文件,還可以讀取豐富的其它格式的數(shù)據(jù),例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。
AU-PALET DMD式無掩膜光刻機(jī)采用短波段的LED燈為光源,相對于其它的光源,擁有更高的穩(wěn)定性和更長的壽命,降低價(jià)格的同時(shí)實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光。AU-PALET 無掩膜光刻機(jī)為面曝光,采用10倍的物鏡,一次曝光面積可達(dá)到1mm´0.6mm,結(jié)合電動平移臺可實(shí)現(xiàn)曝光拼接,可達(dá)到更大的曝光面積??赏ㄟ^公司編寫的軟件完成簡單操作和詳細(xì)設(shè)定,操作簡潔方便。
設(shè)備有限公司推出的DMD式無掩膜光刻機(jī)有兩種。
① AU-PALET是一款快速光刻的無掩膜光刻機(jī)。本裝置采用375nm的LED光源,實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光,并且擁有更高的穩(wěn)定性和更長的壽命。采用10´的物鏡曝光面積達(dá)到1mm´0.6mm,光刻分辨率達(dá)到5mm,并在10s 內(nèi)完成曝光。
②
②AU-PALET_new 是AU-PALET的升級版本,在光源上采用波長更短的365nm的LED燈作為光源,采用10´的物鏡曝光面積達(dá)到1mm´0.6mm,光刻分辨率達(dá)到3mm,并在1s 內(nèi)完成曝光。
u 主要特點(diǎn)
高速度(1s)
廣范圍(1´0.6mm)
365nm LED光源
高分辨率 (3mm)
成本低
u 主要應(yīng)用
磁性薄膜等的任意形狀的圖案的形成
傳感器,半導(dǎo)體器件的制作
MEMS器件的試制、
光電子,LED的試制
微流體器件的試制
掩膜版制作
細(xì)胞分離通道等的制作
光波導(dǎo)路的制作
主要參數(shù)
型號 參數(shù) | AU-PALET | AU-PALET_new |
光源 | 375nm LED | 365nm LED |
光刻分辨率(使用10倍物鏡) | 5 mm | 3 mm |
曝光面積(使用10倍物鏡) | 1mm´0.6mm | 1mm´0.6mm |
平臺 | 手動XYZq平臺 | 手動XYZq平臺 |
構(gòu)成 | 裝置本身,電腦, 軟件 | 裝置本身,電腦, 軟件 |
外形尺寸 | 420(W) x 300(D) x 600(H) | 300(W) x 450(D) x430(H) |
選項(xiàng) | 2x鏡頭,電動平臺等 | 2x鏡頭,電動平臺等 |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)