催化反應爐LFT1200C300D10 III爐體小巧，升溫速度極快，它不僅可以抽真空,也可以通氣體保護，其結(jié)構(gòu)使得拆裝爐管方便，操作簡捷，設備配有觀察窗口，透...

生物質(zhì)熱解碳化活化系統(tǒng)包括：機架、進料系統(tǒng)、反應管組件、供汽系統(tǒng)、收料系統(tǒng)、反應爐、預熱爐、裂解爐、裂解反應管、換熱器、尾氣燃燒機構(gòu)、尾氣過濾罐、吊架和電氣控制...

區(qū)融爐 LFT1200C 30D50 QR設計為有機材料或無機材料區(qū)域融化提純使用，爐體加熱區(qū)長度30mm，伺服電機經(jīng)過PLC控制以緩慢平穩(wěn)的速度推進，行進速度...

立式淬火爐 LFT1500C 50D30 OP如圖所示，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件。該設備設計為立式結(jié)構(gòu)，樣品由吊絲固定,真空腔室...

單工位高真空封管機系統(tǒng)主要用于樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，整套系統(tǒng)由真空封管機、氫氧焰機、真空系統(tǒng)、石英管機管接頭組成，標準化定制石英管和石英柱保...

化學氣相沉積設備CVD1200C-II-SL200D50-5Z 雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并...

ZnO納米材料生長設備，由氣體流量計控制系統(tǒng)、液體注液系統(tǒng)、多段溫度可控多區(qū)生長系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)、碳納米線或膜收集系統(tǒng)，紅外烘干系統(tǒng)組成。

高溫熱處理設備是一款小型混合箱式/管式爐，作為單純的箱式爐可對樣品在空氣環(huán)境下進行熱處理，作為管式爐可對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下進行熱處理

鋰電負極設備集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空吸附成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。

LFT1400C-II高溫高壓管式爐現(xiàn)貨，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件，均勻分布于爐管兩側(cè)，溫場均勻可靠。

真空氣氛箱式爐 LFM1200C 64VC用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結(jié)等工藝，也可用于產(chǎn)品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱，PID程...

新能源材料設備特點：該設備是由開啟式真空管式爐根據(jù)特殊工藝要求而設計的，其滑軌式結(jié)構(gòu)設計在實驗過程中可滿足多種工藝要求

LFT-1200C 400D60單溫區(qū)管式爐采用雙層風冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使...

多溫區(qū)管式高溫高壓爐集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件，均勻分布于爐管兩側(cè)，溫場均勻可靠。鎳基合金材料制成的金屬爐...

LFT1400C-II高溫高壓管式爐廠家，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件，均勻分布于爐管兩側(cè)，溫場均勻可靠。

LMF系列真空氣氛箱式爐如圖所示,集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁纖維材料，采用進口合金電阻絲為加熱元件。是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工...

立式高溫淬火爐如圖所示，集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件，用于催化劑焙燒，方便催化劑裝填和轉(zhuǎn)移。

雙工位立式真空封管機主要用于樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，封管機上有電磁閥，通電后處于常開狀態(tài)，當壓力達到設定壓力后，電磁閥自動關閉，停止進氣。 標...

薄膜材料制備廣泛用于:真空或氣氛燒結(jié)、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環(huán)境。該設備技術成熟、質(zhì)量可靠，溫場均勻，結(jié)構(gòu)合理，法蘭以卡箍密封，安裝拆卸簡便快捷，是各...

簡要介紹區(qū)域熔融純化設備襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。加熱元件與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了溫場的均勻性。測溫采用性能穩(wěn)...