等離子光氧 一體機(jī)

等離子光氧 一體機(jī)裝置是一種專門去除有毒有害氣體及惡臭氣體的一種裝置。是等離子分解廢氣凈化器+UV光解除臭廢氣凈化器兩種設(shè)備的結(jié)合，綜合采用了等離子廢氣凈化器和紫外光觸媒除臭廢氣凈化器兩種設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)組合而成，利用等離子分解技術(shù)和UV紫外光解技術(shù)相結(jié)合，對(duì)廢氣和臭氣進(jìn)行協(xié)同凈化處理。

等離子光氧一體凈化設(shè)備具有凈化效率高、運(yùn)行成本低、設(shè)備占地面積小，自重輕、無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音等特點(diǎn)，等離子光解一體機(jī)凈化效率在95%以上，是目前市場(chǎng)上較有效的廢氣凈化設(shè)備。 

等離子光氧一體凈化設(shè)備分為等離子分解和紫外線光解兩個(gè)區(qū)，惡臭氣體先經(jīng)等離子分解區(qū)，再經(jīng)過(guò)UV紫外線光解區(qū)，兩級(jí)凈化后達(dá)標(biāo)排出。

它具有凈化效率高、運(yùn)行成本低、設(shè)備占地面積小，自重輕、無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音等特點(diǎn)，等離子光解一體凈化設(shè)備凈化效率在95%以上。

等離子光氧 一體機(jī)裝置工作原理：

當(dāng)廢氣進(jìn)入等離子光氧一體凈化設(shè)備內(nèi)時(shí)，先經(jīng)過(guò)等離子體化學(xué)反應(yīng)過(guò)程，即電子   先從電場(chǎng)獲得能量，通過(guò)激發(fā)或電離將能量轉(zhuǎn)移到分子或原子中去，獲得能量的分子或原子被激發(fā)，同時(shí)有部分分子被電離， 從而成為活性基團(tuán)；之后這些活性基團(tuán)與分子或原子、活性基團(tuán)與活性基團(tuán)之間相互碰撞后生成穩(wěn)定產(chǎn)物和熱。(在外加電場(chǎng)的作用下，介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)，使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹?jiǎn)單小分子   物質(zhì)，或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變成   無(wú)害或低毒低害的物質(zhì)，從而使污染物得以降解去除。)

然后部分有機(jī)廢氣再通過(guò)破壞、分解、催化氧化把污染氣體分解為無(wú)害無(wú)味氣體。采用   C波段光線強(qiáng)裂污染氣體分子鏈，改變物質(zhì)分子結(jié)構(gòu)，將高分子污染物質(zhì)裂解、氧化成為低分子無(wú)害物質(zhì)，如水和二氧化碳等。O3強(qiáng)催化氧化劑進(jìn)行廢氣催化氧化, 可有效地殺滅細(xì)菌，將有毒有害物質(zhì)破壞且改變成為低分子無(wú)害物質(zhì)。在C波段激光刺激催化劑涂層產(chǎn)生活性，強(qiáng)化催化氧化作用。在分解過(guò)程中產(chǎn)生 高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對(duì)有機(jī)物具有*的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有*的   效果。O3也為強(qiáng)催化氧化劑進(jìn)行廢氣催化氧化, 裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，   達(dá)到脫臭的目的。

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