VTC-50A 旋轉涂膜機 參考價：面議
VTC-50A 旋轉涂膜機能夠在瞬間提供可控的高速旋轉，迅速將液體、膠狀體等材料在襯底上均勻地形成薄膜。
VTC-200PV真空旋轉涂膜機 參考價：面議
VTC-200PV真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。
EQ-SPC-1 微型絲印涂層機 參考價：面議
EQ-SPC-1 微型絲印涂層機 是一款手動精密的絲網印刷機和電路涂布機，大印刷面積是.70 x 50 mm，可精確的調整三個方向X，Y，Z ,真空 襯底，方便...
SPC-32 電動平面網印機 參考價：面議
SPC-32 電動平面網印機是燃料電池、太陽能電池涂覆設備。采用直線導軌，配合變頻調整轉動，確保印刷時的穩(wěn)定性和精密度；刮刀壓力和印刷速度可調，確保印刷的品質
GSL-1600X-VIGA300氣體霧化金屬粉末制備 參考價：面議
GSL-1600X-VIGA300氣體霧化金屬粉末制備系統(tǒng)是THE NEWEST 研制開發(fā)的冶金設備，可用于制備鐵基金屬粉末、鎳基金屬粉末、銅粉末、貴金屬粉末等...
MSK-NFES-3C 靜電紡絲機 參考價：面議
MSK-NFES-3C 靜電紡絲機可應用于生物高分子、通用高分子、預聚體納米纖維制備，高分子共混物納米纖維的制備，具有納米孔洞、納米顆粒、納米珠串結構的表面或薄...
MSK-NFES-4靜電紡絲納米纖維制備系統(tǒng) 參考價：面議
MSK-NFES-4靜電紡絲納米纖維制備系統(tǒng)是一個完整的納米纖維制備系統(tǒng)，或者說是一個完整的靜電紡絲涂覆系統(tǒng)（或電噴鍍）。具有操作軟件友好、設計以任務作業(yè)為基準...
MSK-SP-04-LD 超聲霧化熱解涂覆薄膜設備 參考價：面議
MSK-SP-04-LD 超聲霧化熱解涂覆薄膜設備是將溶液霧化后噴涂到加熱的基底上，然后在基底上得到想得到的物質結構。此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且...
VTC-300USS 超聲霧化旋轉涂膜機 參考價：面議
VTC-300USS 超聲霧化旋轉涂膜機可以精確控制溶液化學計量比、霧粒噴出速度、霧粒大小等參數。采用步進電機和微處理器控制容積泵精確輸送溶液（溶液可以選擇被加...
MSK-ESC-R2R卷對卷靜電紡絲系統(tǒng) 參考價：面議
產品簡介：MSK-ESC-R2R卷對卷靜電紡絲系統(tǒng)是一款桌面型靜電紡絲涂布系統(tǒng)，配有自動卷對卷放料和收料系統(tǒng)。連續(xù)精確的輸送漿料，以達到均勻紡絲制膜的效果。高壓...
GSL-1800X-ZF2 蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：面議
GSL-1800X-ZF2 蒸發(fā)鍍膜儀主要應用于大專院校、科研機構、企業(yè)實驗室及微小產品進行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產
GSL-1800X-ZF4 蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：面議
GSL-1800X-ZF4 蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al、Au等），也可蒸鍍各種氧化物材料。本機設有4個蒸鍍...
OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐 參考價：面議
OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐專門針對于用PVD或CSS法來制作薄膜。管式爐爐管直徑為11“ OD，爐管內載樣盤可放置3“ 的圓形...
鈣鈦礦鍍膜機 參考價：面議
鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧...
OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉蒸發(fā)鍍膜爐 參考價：面議
OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉蒸發(fā)鍍膜爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門設計針對于熱蒸發(fā)或CSS（Close Space...
GSL-1700X-EV4 程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：面議
GSL-1700X-EV4 程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀是一款小型溫控型蒸發(fā)鍍膜儀，內部設有4個蒸發(fā)坩堝，且每個蒸發(fā)坩堝都帶有擋板，多可放置4種不同的蒸發(fā)物料，可...
雙靶磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個采用射頻（RF）濺射，...
等離子三靶濺射儀 參考價：面議
GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的最-簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。本機特別之處是在一個真空室內安裝了三...
磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的最-簡單、可靠、經濟的鍍膜設備，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非...
1 英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀 參考價：面議
VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型)，配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設備主要用于制作非導電薄膜，特別是一些氧化...
2英寸300W射頻磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空...
小型三靶等離子濺射儀 參考價：面議
VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認證的等離子薄膜濺射儀(直流普通型)，基片最大尺寸2英寸，加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式。它可以濺射三種類型的靶材...
小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：面議
GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀是一款小型臺式程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀，可以設定程序，精確控制溫度200ºC~1500ºC（或...
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