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詳細(xì)介紹
日本filmetrics膜厚測(cè)量系統(tǒng)F20
主要特點(diǎn)
支持廣泛的膜厚范圍（1 nm 至 250 μm）
支持寬波長(zhǎng)范圍（190nm 至 1700nm）
強(qiáng)大的膜厚分析
光學(xué)常數(shù)分析（折射率/消光系數(shù)）
緊湊的外殼
支持在線測(cè)量
一種行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、低價(jià)、多功能的臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)，已在全球安裝了 5,000 多臺(tái)。它可用于從研發(fā)到制造現(xiàn)場(chǎng)在線測(cè)量的廣泛應(yīng)用。
F20基于光學(xué)干涉法可在1秒左右輕松測(cè)量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系數(shù)。
它還支持多點(diǎn)在線測(cè)量，并支持RS-232C和TCP/IP等外部通訊，因此可以通過(guò)PLC或上位機(jī)進(jìn)行控制。
主要應(yīng)用
平板半導(dǎo)體光學(xué)鍍膜薄膜太陽(yáng)能電池醫(yī)療的
| 單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR膜、 各種光學(xué)膜等。 |
| 抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等 |
| 防反射膜、硬涂層等 |
| CdTe、CIGS、非晶硅等 |
| 砷化鋁鎵（AlGaAs）、磷化鎵（GaP）等 |
| 鈍化、藥物涂層等 |
產(chǎn)品陣容
模型F20-UVF20F20-近紅外F20-EXRF20-UVX測(cè)量波長(zhǎng)范圍膜厚測(cè)量范圍性*測(cè)量光斑直徑光源
| 190 – 1100nm | 380 – 1050nm | 950 – 1700nm | 380 – 1700nm | 190 – 1700nm |
| 1nm – 40μm | 15nm – 70μm | 100nm – 250μm | 15nm – 250μm | 1nm – 250μm |
| ± 0.2% 薄膜厚度 | ± 0.4% 薄膜厚度 | ± 0.2% 薄膜厚度 | ||
| 1納米 | 2納米 | 3納米 | 2納米 | 1納米 |
| 支持高達(dá)1.5 毫米或 0.5 毫米 小 0.1 毫米（可選） | ||||
氘· 鹵素 | 鹵素 | 氘· 鹵素 | ||
* Filmometry 提供的測(cè)量 Si 基板上的 SiO2 膜時(shí)器件主體的精度。
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