科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統(tǒng) 參考價：499999
PLUTO-E100型科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統(tǒng)是一款低成本，適合于科研機構(gòu)實驗室的桌面型科研設(shè)備，整套系統(tǒng)的目的是在4寸以及以下的樣品上進行...
國產(chǎn)等離子刻蝕機 參考價：面議
PLUTO-MH國產(chǎn)等離子刻蝕機是針對于高校，科學研究所和企業(yè)實驗室，或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實驗平臺。針對用戶不同的需求，我們提供不同功能附件...
CCP等離子刻蝕機 參考價：88000
等離子刻蝕機(Plasma Etcher)是一種常用于微納米加工領(lǐng)域的設(shè)備，用于對半導(dǎo)體器件、光學元件、生物芯片等材料進行精細加工和圖案定義。其原理基于等離子體...
ICP等離子刻蝕機 參考價：88000
ICP等離子刻蝕機WINETCH是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計的高性價比ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個多功能系統(tǒng)，它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計與靈活的配置方案，獲得...
國產(chǎn)等離子刻蝕機設(shè)備 參考價：面議
PLUTO-MH國產(chǎn)等離子刻蝕機設(shè)備是一種用于微納米加工的關(guān)鍵設(shè)備，主要用于半導(dǎo)體、光電子、納米材料等領(lǐng)域的微細加工和表面處理。等離子刻蝕技術(shù)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)...
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