PLUTO-MH等離子清洗機/表面處理系統(tǒng)是種新型清洗設備，采用了等離子技術，可以清洗各種物品。它具有環(huán)保節(jié)能等特點，受到了廣大消費者的青睞。其核心技術是等離子技術。等離子是一種高能態(tài)的物質(zhì)，可以在較低的溫度下產(chǎn)生強大的清潔效果。該技術利用氣體分子間的碰撞和電子的激發(fā)來釋放能量，并以此來清洗物品表面的污垢。
PLUTO-MH等離子清洗機/表面處理系統(tǒng)（實驗平臺）特點：
針對于對等離子體處理有嚴苛要求的場合中使用
等離子源才用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器，兼顧物理反應和化學反應
采用500W功率電源，自動阻抗匹配，高功率射頻發(fā)生器可應對各種實驗要求，保障高能量密度和高處理效率
高精度真空度控制，適應各種處理需求
316不銹鋼腔體(或者6061鋁合金)，全不銹鋼管路和連接件，適用各種氣體(包含腐蝕性氣體)
4.3寸工業(yè)級觸摸屏，軟件操作方便，多種參數(shù)設置和工藝組合處理模式
可增加多種配件，涂覆鍍膜，電極溫度控制，等離子體強度控制，等離子體化學反應等功能(如有特殊應用，請咨詢銷售人員)
根據(jù)用戶需求，提供對應等離子體處理方案和定制特殊用途設備
PLUTO-MH等離子清洗機/表面處理系統(tǒng)（實驗平臺）參數(shù):
真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L
電極：兩個自適應平板電極，材質(zhì)T6061鋁合金(可提供特氟龍包覆無孔平板電極,適合需要雙面處理樣品)
電極尺寸：120*135mm 間距20~75mm 可調(diào)(可反轉(zhuǎn))
等離子體發(fā)生器：RF射頻發(fā)生器，頻率：13.56MHz
功率：0-500W連續(xù)可調(diào)，自動阻抗匹配,精度1W
氣體控制：針式氣體流量閥，標配1路氣體,全不銹鋼管道和連接件
控制方式：4.3寸工業(yè)控制觸摸屏
控制軟件功能：界面顯示實時工作狀態(tài)，
可顯示設置值與實際值，便于實時控制。
可自由設置等離子功率，通入氣體時間
多級操作權限,多種工藝參數(shù)組合控制,
全手動控制和全自動控制可選
保護裝置：一鍵急停保護按鈕
(如需其他功能,請咨詢銷售人員)
等離子清洗機的應用領域:
配置不同模塊，拓展不同應用
加熱電極模塊-溫度可控，可以加速等離子體處理速度和極大提高樣品處理的均勻性
沉積鍍膜模塊，改變表面特性：
沉積CF材料，樣品表面可以具有憎水的特性
沉積含苯材料，樣品表面起到絕緣防水的特性
沉積含有羥基的材料，提高樣品表面和其他材料的結合效果
感應耦合模塊-感應耦合等離子體裝置
氣體混合裝置
可以根據(jù)可以要求進行混氣設計
氣體純化和反應
氣體純化和使用等離子體與相關材料進行化學反應
3
化工儀器網(wǎng)