POLOS 系列 光譜測量儀

POLOS 系列 光譜測量儀及產(chǎn)品簡介：
FR-pRo 是一個模塊化和可擴展的平臺，用于表征 1 nm - 1 mm 厚度范圍內(nèi)的涂層。FR-pRo 工具根據(jù)客戶需求量身定制，用于各種不同的應(yīng)用，例如：吸光度/透射率/反射率測量、溫度和環(huán)境受控環(huán)境甚至液體環(huán)境中的薄膜表征等等。

POLOS 系列 光譜測量儀

 FR-pRo 是一個模塊化和可擴展的平臺，用于表征 1 nm - 1 mm 厚度范圍內(nèi)的涂層。FR-pRo 工具根據(jù)客戶需求量身定制，用于各種不同的應(yīng)用，例如：吸光度/透射率/反射率測量、溫度和環(huán)境受控環(huán)境甚至液體環(huán)境中的薄膜表征等等。

FR-pRo 由用戶選擇的模塊組裝而成。核心單元可容納光源、光譜儀（適用于200 nm - 2500 nm范圍內(nèi)的任何光譜范圍）以及控制和通信電子設(shè)備。然后，有各種各樣的配件，例如：

用于吸光度/透射率和化學濃度測量的膠片/比色皿支架

用于涂層表征的 Film Thickness 套件

用于在受控溫度或液體環(huán)境中進行測量的熱敏或液體套件

用于漫反射和總反射的積分球

通過不同模塊的組合，最終設(shè)置滿足任何最終用戶的需求。

FR-pRo 系列 

用于涂層表征的模塊化和可擴展平臺

廣泛應(yīng)用于半導體、大學和研究實驗室、生命科學等領(lǐng)域

 

品牌POLOS 系列

產(chǎn)品編號FR-pRo 系列

材料臺式系統(tǒng)

厚度范圍1 nm 至 120 μm

光譜范圍190 納米 - 1100 納米

光源 MTBF桌面系統(tǒng)

光譜范圍

190 納米 - 1000 納米

190 納米 - 1100 納米

190 納米 - 1700 納米

200 納米 - 1000 納米

200 納米 - 1020 納米

POLOS 系列 光譜測量儀